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C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
C₃F6O/O₂ 혼합 가스의 SiO₂, Si₃N₄에 대한 식각 특성분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Nano Pattern 된 Ultra Low-k Dielectric 물질에서의 C₃H₂F6를 이용한 Low Damage 식각 공정 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Ar/C₄F6/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
C6F6를 이용한 Plasma 공정 중 회수 전후의 가스 및 Plasma 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
낮은 GWP를 가진 CxF2xO 을 이용한 SiO2 식각 공정 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
C₃H₂F₆ Isomer를 이용한 Dielectric 식각 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Development of methodology for Individual control of ion and radical in dual freqeuncy(13.56 ㎒ + 400 ㎑) pulsed Ar/CF₄/O₂ plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Enhancement of the Virtual Metrology Performance for Plasma-assisted Processes by Using Plasma Information (PI) Parameters
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
다양한 etch gas를 이용한 자성 박막의 식각특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
L- Hydrofulorocarbon Plasma를 이용한 Dielectric 식각 물질 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
낮은 GWP의 C₃H₂F6 기반 화합물의 Ultra Low-k Dielectirc 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
ICP 식각 공정에서의 컨택홀의 기울어진 식각 프로파일
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Effect of embedded pulse plasma on the etch of SiO₂ by varying the duty percentage
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F8/Ar capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
식각된 LED의 식각 깊이와 식각 각도가 광 추출 효율에 미치는 영향
새물리
2020 .10
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