Characteristics of SiO₂ Etching by Capacitively Coupled Plasma with Different Fluorocarbon Liquids (C₇F₁₄, C₇F₈) and Fluorocarbon Gas (C₄F₈)

Seung-Wan Yoo ,  Chulhee Cho ,  Kyungtae Kim 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2021 .07

C6F6를 이용한 Plasma 공정 중 회수 전후의 가스 및 Plasma 특성 연구

오지영 ,  이지환 ,  정준호 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Characterization of SiO₂ Over Poly-Si Mask Etching in Ar/C₄F₈ Capacitively Coupled Plasma

In Ho Seong ,  Jang Jae Lee ,  Chul Hee Cho 외 3명

Applied Science and Convergence Technology

2021 .11

Etching of Ta₂O₅ thin films by inductively coupled plasma

Gwan-Ha Kim ,  KyuSung Heo

한국분석과학회 학술대회

2024 .11

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Data production and study of ionization cross section for CxFy fluorocarbons : useful data for plasma modeling

Dhanoj Gupta ,  Heechol Choi ,  Jung-Sik Yoon 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Applications of fluid based plasma simulation : dry etch

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma

조철희 ,  김시준 ,  이장재 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Brief Review of Atomic Layer Etching Based on Radiofrequency-Biased Ar/C₄F₆-Mixture-Based Inductively Coupled Plasma Characteristics

Min Young Yoon ,  Hee Jung Yeom ,  Jong-Ryul Jeong 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2023 .03

MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment

양경채 ,  박성우 ,  김경남 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Effects of pulsed inductively coupled Cl₂/Ar plasma for the etching of Si nanostructure

신예지 ,  김교운 ,  김희주 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Ar/C_xF_2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구

성익찬 ,  탁현우 ,  성다인 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Study on the Etching properties by using Inductively Coupled CF₄/C₄F8/O₂ & CF₄/CBr₂F₂/O₂ plasmas

Yunho Nam ,  Junmyung Lee ,  Jongchan Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Si Fin etching using Cl₂/Ar Sync, Asynchronized Pulsed Inductively Coupled Plasmas

김희주 ,  김교운 ,  홍종우 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Dry etching of Al₂O₃ thin films in inductively coupled plasma system

Seok SON ,  Young Hee JOO ,  Chang Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Analysis of chemical reactions of CF₄ and C₄F₈ for inductively coupled plasma based on plasma parameters

J. J. Lee ,  S. J. Kim ,  Y. S. Lee 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Oxide 및 Nitride 고선택비 식각 공정에서의 CF4(CHF3)/O2/Ar inductively coupled pulsed plasmas

김희주 ,  신예지 ,  김교운 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes

Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F₈/Ar capacitively coupled plasma

S. J. Kim ,  J. J. Lee ,  H. J. Yeom 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Experimental investigation on plasma density distribution at a wafer-level in an inductively coupled plasma using multiple passive resonant antennas

홍영훈 ,  김주호 ,  이무현 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08