Characteristics of low-dielectric constant SiCOH films formed with the phenyltrimethoxysilane precursor

Wonjin BAN ,  Suwon KIM ,  Sung 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

The Plasma Characterization of Multiple RF Power for Oxide Via Etching Process

Kun Joo Pa ,  k ,  Min Shik Kim 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02

Oxygen Plasma Characterization Analysis for Plasma Etch Process

Pa ,  k ,  Jin-Su 외 2명

동굴

2007 .01

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Applications of fluid based plasma simulation : dry etch

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment

양경채 ,  박성우 ,  김경남 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma

조철희 ,  김시준 ,  이장재 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Real-Time Small Exposed Area SiO₂ Films Thickness Monitoring in Plasma Etching Using Plasma Impedance Monitoring with Modified Principal Component Analysis

장해규 ,  남재욱 ,  채희엽

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .02

Etch Characteristics of FePt Magnetic Thin Films Using Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching

Eun Ho Kim ,  Yu Bin Xiao ,  Hwa Won Lee 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2010 .12

Study on etching-shape of ZnO Film by wet-chemical etching

Dong Geun Yoo ,  Myoung Hwa Kim ,  Seong Hun Jeong 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .08

Plasma Dry Etching 방법에 의한 Wafer Backside Etch 특성 평가

한영기 ,  서영수 ,  유재하 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .08

Ar/C_xF_2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구

성익찬 ,  탁현우 ,  성다인 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Investigation of surface reaction mechanisms on etch of AZO thin films in high density plasma

Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Etching Characteristics of Au Film using Capacitively Coupled CF4/Ar Plasma

Kim ,  Gwang-Beom ,  Hong 외 1명

동굴

2007 .01

High density plasma etching of MgO thin films in Cl₂/Ar gases

Y. B. Xiao ,  E. H. Kim ,  S. M. Kong 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Carbon 계 유기막질 Plasma Etching에 있어 COS (Carbonyl Sulfide) Gas 특성에 관한 연구

김종규 ,  민경석 ,  김찬규 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes

Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Etching properties of titanium nitride thin films in a O₂/Cl₂/Ar plasma

Wang YIYU ,  Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Ar/C₄F₆/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석

김수강 ,  양경채 ,  신예지 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Plasma Etching Process based on Real-time Monitoring of Radical Density and Substrate Temperature

K. Takeda ,  Y. Fukunaga ,  T. Tsutsumi 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02