TDMAT precursor를 이용한 MOCVD 증착 공정 중 발생하는 오염입자 실시간 측정에 관한 연구

나정길; 김태성; 최재붕; 김영진; 윤주영; 강상우

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저자정보: 나정길 (성균관대학교) 김태성 (성균관대학교) 최재붕 (성균관대학교) 김영진 (성균관대학교) 윤주영 (한국표준과학연구원) 강상우 (한국표준과학연구원)

저널정보: 한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제36회 동계학술대회 초록집

발행연도: 2009.2

수록면: 210 - 210 (1page)

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2009

Polysilicon 박막 증착을 위한 화학증착공정 중 공정변수에 따른 오염입자발생특성 연구

나정길 , 김태성 , 최재붕 외 4명 한국진공학회 학술발표회초록집 2009.08 학술대회자료

TDMAT precursor를 이용한 MOCVD 증착 공정 중 발생하는 오염입자 실시간 측정에 관한 연구

나정길 , 김태성 , 최재붕 외 3명 한국진공학회 학술발표회초록집 2009.02 학술대회자료

2008

TiN 증착을 위한 MOCVD 공정 중 열분해에 따른 Precursor 진단 및 오염입자 발생에 관한 연구

나정길 , 김태성 , 최재붕 외 3명 한국진공학회 학술발표회초록집 2008.08 학술대회자료

2007

저압공정 중 발생하는 나노입자 실시간 측정장비에 관한 연구

나정길 , 조대근 , 최재붕 외 2명 Applied Science and Convergence Technology 2007.11 학술저널

저압공정 중 발생하는 나노입자의 실시간 측정장비에 관한 연구

나정길 , 조대근 , 최재붕 외 2명 한국진공학회 학술발표회초록집 2007.08 학술대회자료

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나정길

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주요연구분야 자연과학 > 물리학

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김태성

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논문수 160 이용수 11,851

최재붕

소속기관 성균관대학교

주요연구분야 자연과학 > 물리학

논문수 9 이용수 549

김영진

소속기관 광전자

주요연구분야 자연과학 > 물리학

논문수 14 이용수 594

윤주영

소속기관 한국표준과학연구원

주요연구분야 자연과학 > 물리학 TOP 5% 공학 > 기계공학 > 기계공학 일반

논문수 109 이용수 8,101

강상우

소속기관 한국표준과학연구원

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논문수 122 이용수 6,368

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Formation of TiN Films by Metal Organic Chemical Vapor Deposition using TDEAT ( Ti [ N ( C2H5 ) 2 ] 4 ) , TDMAT ( Ti [ N ( CH3 ) 2 ] 4 ) and TEMAT ( Ti [ N ( CH3 ) ( C2H5 ) ] 4 )

김재호 , 이재갑 , 신현국 외 1명 대한전자공학회 학술대회 1996 .01

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