ALD growth of HfO₂ thin films using Hf(mp)₄ and water

조원태 ,  장홍석 ,  양택승 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

Excellent magnetic properties of Co_52.5Fe_22.5Hf₁₀O₁₅ thin films

Tho Luu Van

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2006 .11

HfO₂ 박막 MOCVD 증착 및 차세대 저항 메모리 특성 분석 연구

이승협 ,  용기중

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .02

Properties of HfSi_xO_y/HfO₂ film as a various Annealing Temperature

송유주 ,  박재경 ,  노용한

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .08

Low-temperature growth of wafer-scale MoS₂ by MOCVD

Jihun MUN ,  Chegal WON ,  Jeong Won KIM 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

MOCVD and Characterization of ZnO Thin Films Using and Aminoalkoxide Single Precursor

Ju Yeon Kim ,  Min Chan Kim ,  Young Kuk Lee 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

Investigation of HfO₂-Al₂O₃laminate and Hf - Al- O films with poly - Si Gates

J. Hua ,  S. W. Lee ,  H. J. Kang 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

PE - MOCVD로 증착된 Hf(C,N)박막의 Cu에 대한 확산 방지 특성

노우철 ,  조용기 ,  김영석 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

1998 .02

Preparation of Metallic Cu Thin Films by MOCVD Using Novel Organometallic Cu(II) Precursors

Sun Sook Lee ,  Jung Woo Pa ,  k 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

Preparation of NiSi thin films by MOCVD using the novel Ni(dmamp)₂ precursor

정영숙 ,  김민찬 ,  양택승 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

RF Sputtering의 증착 조건에 따른 HfO₂ 박막의 Nanocrystal에 의한 Nano-Mechanics 특성 연구

김주영 ,  김수인 ,  이규영 외 7명

Applied Science and Convergence Technology

2012 .09

MOCVD 장치 개발

석창길

한국진공학회 학술발표회초록집

1996 .02

Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate

Soonkon Kim ,  Byoungdeog Choi

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate

Soonkon Kim ,  Byoungdeog Choi

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Growth of GaN Films on Si with a LiGaO₂ Buffer Layer by Single Precursor MOCVD

한성원 ,  임종태 ,  유승호 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2001 .02

Energy loss function and inelastic scattering cross-section of ultrathin HfO₂, Al₂O₃ and Hf-Al-O films on Si(100)

김화 ,  강희재

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .02

Growth behavior and structural properties of titanium dioxide thin films on Si(100) and Si(111) substrates using single molecular precursor by high vacuum MOCVD

C. -K. Jung ,  B.-C. Kang ,  H.-Y. Chae 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2001 .07

범밀도함수론을 이용한 정방정계-HfO₂/Si의 계면 층 구조 연구

김대희 ,  서화일 ,  김영철

Applied Science and Convergence Technology

2009 .01

TiO₂ nanorods grown on Ta substrates using a single molecular precursor by thermal MOCVD

Kang Suk Lee ,  Jae-Sung Hyun ,  Young Dok Kim 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .08

Growth of TiO₂ Thin Films on Si(100) and Si(111) Substrates Using Single Molecular Precursor by MOCVD and Comparision of Growth Mechanism and Structural Properties

C.-K. Jung ,  B.-C. Kang ,  H.-Y. Chae 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2001 .02