Formation of TiN Films by Metal Organic Chemical Vapor Deposition using TDEAT ( Ti [ N ( C2H5 ) 2 ] 4 ) , TDMAT ( Ti [ N ( CH3 ) 2 ] 4 ) and TEMAT ( Ti [ N ( CH3 ) ( C2H5 ) ] 4 )

김재호; 이재갑; 신현국; 박상준

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저자정보: 김재호 이재갑 신현국 박상준

저널정보: 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 학술대회 논문집 (한국반도체 대한전자공학회 학술대회 논문집) 제3권

발행연도: 1996.1

수록면: 331 - 332 (1page)

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1996

Carrier gas$(N_2,\;He)$가 MOCVD TiN 형성에 미치는 영향에 관한 연구

김재호 , 이재갑 , 지충수 외 3명 한국재료학회지 1996.01 학술저널

Formation of TiN Films by Metal Organic Chemical Vapor Deposition using TDEAT ( Ti [ N ( C2H5 ) 2 ] 4 ) , TDMAT ( Ti [ N ( CH3 ) 2 ] 4 ) and TEMAT ( Ti [ N ( CH3 ) ( C2H5 ) ] 4 )

김재호 , 이재갑 , 신현국 외 1명 대한전자공학회 학술대회 1996.01 학술대회자료

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