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이용수
ABSTRACT
1. 서론
2. 전산 모사 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌
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이온빔 몬테 카를로 시물레이션 프로그램 개발 및 집속 이온빔 공정 해석
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2012 .04
E-Beam Lithography 기술
전자공학회잡지
1984 .10
New Approach of Monte Carlo Simulation for Low Energy Electron Beam Lithography
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
저에너지 전자빔 리소그라피의 Contrast 특성 분석
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2012 .05
이온빔 조사 경로에 따른 집속이온빔 가공공정의 효율평가
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2011 .06
E-beam Lithography ( Equipment )
대한전자공학회 워크샵
1989 .01
Ion Beam Lithography for Submicron Structure Fabrication
대한전자공학회 워크샵
1989 .01
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2013 .04
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대한기계학회 논문집 A권
2006 .09
Sub-0.1mm Patterning Characteristics of Inorganic Resists by Focused-Ion-Beam Lithography
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
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대한전자공학회 학술대회
1998 .01
마이크로-나노 가공을 위한 집속이온빔 공정 시뮬레이션
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2008 .03
집속이온빔 리소그라피를 이용한 고굴절 비정질 박막 투과 격자 형성
전기학회논문지 C
2001 .01
고수율 집속 이온빔 장치를 위한 ICP 이온원의 빔 인출 특성에 관한 연구
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2013 .05
유도결합형 플라즈마 소스를 이용한 집속 이온빔용 가스 이온원 개발
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2011 .01
Current Status and Future of Electron Beam Lithography
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
집속이온빔 가공장치의 이온컬럼부 얼라인먼트
한국생산제조학회 학술발표대회 논문집
2005 .10
집속이온빔을 이용한 나노가공시스템 개발
한국생산제조학회 학술발표대회 논문집
2006 .05
MONTE CARLO SIMULATION OF ENERGY DISSIPATION IN ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY INCLUDING SECONDARY ELECTRON GENERATION
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1989 .01
ADVANCED LITHOGRAPHY
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
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