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Abstract
1. 서론
2. 관련 이론
3. 실험
4. 결과 및 검토
감사의 글
참고문헌
저자소개
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Plasma Characteristics of (DF-ICP) Dual Frequency Inductively Coupled Pulsed Plasma Source
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
발진 이론에 근거한 유도결합형 방전광원의 안정기 설계에 관한 연구
전기학회논문지
2009 .06
원통형 ICP 광원 모드변환의 안테나 의존성
전기전자재료학회논문지
2005 .01
Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발
전기전자재료학회논문지
2002 .01
아르곤/이산화탄소 혼합가스의 유도 결합 플라즈마를 이용한 이산화탄소 분해 연구
KEPCO Journal on electric power and energy
2015 .01
Large Area Plasma Characteristics using Internal Linear ICP (Inductively Coupled Plasma) Source for the FPD processing
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2006 .01
INDUCTIVELY COUPLED PLASMA (ICP) OXIDATION FOR LOW-TEMPERATURE POLY-Si THIN FILM TRANSISTORS
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
E-ICP에 의한 산화막 식각특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
13.56 MHz 유도 결합 플라즈마에서의 강자성체 페라이트 코어의 효과
반도체및디스플레이장비학회지
2005 .01
대면적 내장 선형 ICP(inductively coupled plasma) system에서 자장이 플라즈마와 PR(Photoresist) 식각 특성에 미치는 영향
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2005 .05
SiO2 식각 특성 개선을 위한 E-ICP와 ICP 식각 비교
대한전자공학회 학술대회
1999 .11
E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구
대한전자공학회 학술대회
2007 .07
E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구
대한전자공학회 학술대회
2007 .07
Large Area Plasma for LCD Processing by Individyally Controlled Array Sources
Journal of information display
2002 .01
Characteristics of NbN Films Deposited on AISI 304 Using Inductively Coupled Plasma Assisted DC Magnetron Sputtering Method
한국표면공학회지
2013 .10
Silylation Photo resist 공정과 Enhanced-Inductively Coupled Plasma(E-ICP)
대한전자공학회 학술대회
1999 .06
C₄F₈/O₂ 공정기체와 E-ICP를 이용한 산화막 식각
대한전자공학회 학술대회
2001 .06
DC 스퍼터법과 유도결합 플라즈마 마그네트론 스퍼터법으로 증착된 수퍼하드 TiN 코팅막의 물성 비교연구
한국표면공학회지
2013 .04
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