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이용수
Abstract
서론
실험
결과
결론
참고문헌
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E-ICP에 의한 산화막 식각특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
Enhanced Inductively Coupled Plasma의 자화 주파수 의존 특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
아르곤/이산화탄소 혼합가스의 유도 결합 플라즈마를 이용한 이산화탄소 분해 연구
KEPCO Journal on electric power and energy
2015 .01
Plasma Characteristics of (DF-ICP) Dual Frequency Inductively Coupled Pulsed Plasma Source
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2018 .10
Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2019 .07
INDUCTIVELY COUPLED PLASMA (ICP) OXIDATION FOR LOW-TEMPERATURE POLY-Si THIN FILM TRANSISTORS
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
고진공에서의 Inductively Coupled Plasma 특성 진단
대한전기학회 학술대회 논문집
2020 .07
대면적 내장 선형 ICP(inductively coupled plasma) system에서 자장이 플라즈마와 PR(Photoresist) 식각 특성에 미치는 영향
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2005 .05
Plasma Properties of Dual-Frequency Inductively Coupled Plasma Source
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2014 .05
실릴화 / 습식 현상을 이용한 새로운 미세 패턴 형성법 ( New-Fine Patterning Method of Positive Photo Resist by Silylation / Wet Develop )
대한전자공학회 학술대회
1993 .01
13.56 MHz 유도 결합 플라즈마에서의 강자성체 페라이트 코어의 효과
반도체및디스플레이장비학회지
2005 .01
Large Area Plasma Characteristics using Internal Linear ICP (Inductively Coupled Plasma) Source for the FPD processing
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2006 .01
ICP 광원의 정격용량 설계 요소와 전기적 의존성
전기학회논문지
2008 .03
산소 플라즈마를 이용한 Photo Resist 제거 ( Photo Resist Stripping by Oxygen Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
디스플레이 공정용 ICP 장비에서 안테나 구조 변화에 따른 플라즈마 변수 비교
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .05
Inductively coupled plasma를 이용한 ITO표면의 O₂ plasma 처리 후 유기 발광 소자의 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2005 .11
Top-Surface Imaging Process by Silylation을 이용한 미세 패턴 형성 방법 연구
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Plasma Properties by Pulsed Inductively Coupled Plasma Source using Dual Frequency
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2014 .05
Double comb. type의 내장형 선형 ICP(Inductively Coupled Plasma) system에서 자장이 플라즈마 특성에 미치는 영향에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2004 .05
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