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Large Area Plasma for LCD Processing by Individyally Controlled Array Sources
Journal of information display
2002 .01
Characteristics of Line-type Internal Inductively Coupled Plasma Source for Flexible Display Processing
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2009 .01
수치모델을 이용한 ICP-CVD 장치의 증착 균일도 해석
한국표면공학회지
2008 .12
E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구
대한전자공학회 학술대회
2007 .07
E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구
대한전자공학회 학술대회
2007 .07
EFFECT OF NEUTRAL GAS FLOW ON THE PLASMA STATE IN ICP PROCESS,
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
태양광 Plasma System의 균일도 향상을 위한 이중주파수 전력공급 장치
전력전자학회 학술대회 논문집
2009 .07
ICP 광원의 정격용량 설계 요소와 전기적 의존성
전기학회논문지
2008 .03
대기압 플라즈마를 이용한 표면처리 균일성 향상에 관한 연구
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2011 .06
반도체 플라즈마 식각 시스템의 균일도 향상을 위한 CCP와 ICP 결합 임피던스정합 장치
전력전자학회논문지
2010 .08
C₄F₈/O₂ 공정기체와 E-ICP를 이용한 산화막 식각
대한전자공학회 학술대회
2001 .06
Plasma Characteristics of (DF-ICP) Dual Frequency Inductively Coupled Pulsed Plasma Source
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
13.56MHz 유도 결합 플라즈마에서의 강자성체 페라이트 코어의 효과
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2005 .01
13.56 MHz 유도 결합 플라즈마에서의 강자성체 페라이트 코어의 효과
반도체및디스플레이장비학회지
2005 .01
품질향상을 위한 제품 균일성의 On-Line 제어
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
1996 .03
My Experience with plasma Sources
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2004 .11
Gas 주입구 위치 변화에 따른 ICP-CVD SiO₂의 두께 균일도 개선 모델링
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2007 .04
SiO2 식각 특성 개선을 위한 E-ICP와 ICP 식각 비교
대한전자공학회 학술대회
1999 .11
3D ICP에 2turn parallel antenna 구성에 따른 플라즈마 특성 및 etching 균일도 모델링
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2007 .01
Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발
전기전자재료학회논문지
2002 .01
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