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The Development of Cl-Plasma Etching Procedure for Si and SiO₂
한국표면공학회지
2001 .10
다결정 Si/SiO₂ ∥ Si 적층구조에서 SiO₂층의 두께에 따른 유전특성의 변화
한국표면공학회지
2000 .08
A High Selectivity SiO2 / Si3N4 Etching and its Applications to Self-Aligned Contact
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
Si-SiO₂系의 問題点과 研究動向
전기의세계
1985 .06
Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation
대한전자공학회 학술대회
2017 .01
Si$O_{2}/{Si}_{0.7}{Ge}_{0.3}/SiO_{2}$계에서의 계면응집현상에 의한 양자점 형성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
AL / ZnO / Si3N4 / SiO2 / Si 구조의 전기적 특성 및 가스 감지 효과 ( Electrical Property and Gas Sensing Effect of Al / ZnO / Si3N4 / SiO2 / Si Structure )
대한전자공학회 학술대회
1983 .01
Capacitance-Voltage Characteristics in the Double Layers of SiO₂/Si₃N₄
전기학회논문지 C
2003 .10
SIMS를 이용한 SiO₂/PSG/SiO₂/Al-1%Si 및 SiO₂/TEOS/SiO₂/Al-1%Si 적층 박막내의 Na 게터링 분석
한국표면공학회지
2018 .04
REDUCTION OF SIO₂ BY SOLID CARBON AND GAS SPECIES FOR MG-SI
AFORE
2011 .11
전기로를 이용한 $Si∥SiO_2/Si_3N_4∥Si$기판쌍의 직접접합
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
SiO₂/Si₃N₄ 2중층 박막의 유전특성
대한전기학회 학술대회 논문집
2003 .07
Selective Chemical Wet Etching of Si0.8Ge0.2/Si Multilayer
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2013 .12
D. C. 전압 인가에 의한 Pd-SnOx-Si₃N₄-SiO₂-Si-Al 캐패시터의 산소흡착/탈착 반응
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .07
SiO2-Si 구조의 계면준위 측정에 미치는 빛의 영향 ( The Effect of Illumination on Surface State Density measurement of SiO2-Si Structure )
대한전자공학회 학술대회
1984 .01
Si-SiO2 계의 N2 Plasma 처리효과에 관한 연구 ( A Study on the Effect of N2 Plasma Treatment on the Si-SiO2 System )
대한전자공학회 학술대회
1988 .01
The Fabrication of an Applicative Device for Trench Width and Depth Using Inductively Coupled Plasma and the Bulk Silicon Etching Process
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2014 .01
ICP Poly Etcher를 이용한 Poly-Si 건식 식각 시 Gas Flow에 따른 Etching 특성 변화 연구
대한전자공학회 학술대회
2014 .06
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