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급속 열처리 방식에 의한 Ti-실리사이드의 형성 연구 ( Formation of Ti-silicides by Rapid Thermal Annealing )
전자공학회논문지-A
1996 .08
급속 열처리 장치를 이용한 타이타늄 실리사이드 형성 ( Formation of Titanium Silicide by Rapid Thermal Aneal System )
대한전자공학회 학술대회
1987 .11
RTA를 이용한 Cobalt Silicide의 형성 및 Growth Rate에 관한 연구 ( A Study on the Formation of Cobalt Silicide and its Growth Rate by Rapid Thermal Annealing ( RTA ) )
대한전자공학회 학술대회
1988 .07
RTA를 이용한 Cobalt Silicide의 형성 및 Growth Rate에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1988 .07
p+ / n 접합이 형성된 Si ( 100 ) 기판위에 코발트 / 탄탈륨 이중박막을 이용한 극히 얇은 코발트실리사이드 박막의 성장 ( The Formation of an Ultra-thin Cobalt Silicide ( CoSi2 ) Layer on the Pre-Existing P+ / n Junction Using Co / Ta Bilayer )
대한전자공학회 학술대회
1992 .11
니켈 코발트 합금조성에 따른 복합실리사이드의 물성 연구
한국재료학회지
2007 .01
In-Situ 코발트실리사이드 형성에 미치는 증착온도와 증착분위기의 영향 ( Effect of Deposition Temperature and Sputtering Ambient on the In-Situ Cobalt Silicide Formation )
대한전자공학회 워크샵
1996 .01
게이트를 상정한 코발트니켈 복합 실리사이드의 물성과 미세구조
한국재료학회 학술발표대회
2005 .01
코발트/니켈 적층구조 박막으로부터 형성된 복합실리사이드
한국재료학회지
2004 .01
급속열처리에 의한 Ti-실리사이드와 접합의 동시형성에 관한 연구 ( A Study on the Simultaneous Formation of a Ti-Silicide and a Junction by the RTA Process )
전자공학회논문지-A
1991 .03
Ti-실리사이드 형성에 관한 연구 ( A Study on the Ti-Silicide Formation )
대한전자공학회 학술대회
1987 .07
RTA를 이용한 COBALT-SILICIDE의 형성에 관한 연구 ( FORMATION OF COBALT SILICIDE BY RTA )
대한전자공학회 학술대회
1989 .11
자연산화막 존재에 따른 코발트 니켈 복합실리사이드 공정의 안정성
한국산학기술학회 논문지
2007 .02
Titanium과 Cobalt silicide의 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1989 .07
다결정 실리콘 기판 위에 형성된 나노급 니켈 코발트 복합살리사이드의 미세구조 분석
한국산학기술학회 논문지
2007 .04
10 nm 두께의 니켈 코발트 합금 박막으로부터 제조된니켈코발트 복합실리사이드의 미세구조 분석
전기전자재료학회논문지
2007 .01
코발트/니켈 복합실리사이드의 실리사이드온도에 따른 면저항과 미세구조 변화
한국재료학회지
2004 .01
코발트 실리사이드를 도판트 소스로 이용한 폴리사이드 게이트의 전기적 특성
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
코발트 니켈 복합 실리사이드 공정에서 하부 형상에 따른 잔류 금속의 형상 변화
한국산학기술학회 논문지
2005 .06
전자재료 산화박막에 대한 Ti 표면처리 효과
한국산학기술학회 논문지
2005 .06
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