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논문 기본 정보

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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제17권 제10호
발행연도
2004.1
수록면
1,114 - 1,119 (6page)

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The photodepositioned tungsten film by laser CVD has been carried out the taping test with scotch tape over 10 times. As a result, it exhibited strong adhesion to the under-film such as ITO and SiNx patterned on the LCD substrate. However, it was seriously attacked by alkaline solution used for removing polyimide. And a thickness of laser CVD tungsten film had a close relation to a speed of laser scanning. Also we have improved the success rate of a laser CVD repair with making two pairs of contact hole structure and decreasing laser scanning speed.
#Laser induced CVD #TFT LCD #Laser photodepostion #Laser repair #Photodissociation

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/ 1978. / Process technology for photo- mask repair : 49 ~ google schola / 1985. / Visible-laser repair of clear defects in photomasks edl-6 (7) : 344 ~ google schola / 1987. / Laser mask repair using laser CVD google schola / 1990. / High performance contact formation in LSI circuit restructuring using visible pulse laser induced ablation and CVD : 108 ~ google schola / 2000. / 집속 아르곤 이온 레이저 빔을 이용한 레이저 유도 직접 구리 패터닝 13 (11) : 969 ~ google schola

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