Plasma 후처리에 따른 CVD TiN 막의 특성변화

김도형

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 김도형

저널정보: 한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제10회 학술발표회논문개요집

발행연도: 1996.2

수록면: 104 - 104 (1page)

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전력용 반도체 소자의 접합 마감 기술

하민우 , 김수성 전기의세계 2021 .12

ALD법으로 증착한 TiN막의 특성

김재범 , 홍현석 , 오기영 외 1명 Applied Science and Convergence Technology 2002 .09

W-TiN 금속 게이트를 사용한 금속-산화막-반도체 소자의 특성 분석

윤선필 , 노관종 , 양성우 외 4명 대한전자공학회 학술대회 2000 .06

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