Preparation of HfO₂ thin films by MOCVD using the novel single precursor, Hf(mp)₄

양택승 ,  이은주 ,  장홍석 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

Characterization of ALD (HfO2)x(SiO2)1-x dielectrics on p-Si(100)

H. Jin ,  H. J. Kang ,  M.-H. Cho

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .08

Characteristics of low-temperature at 80°C HfO2 deposited by ALD (Atomic Layer Deposition) and electrical properties of NMOS capacitor

Kyoung-Mun Kim ,  Soon-Gil Yoon ,  Nak-Kwan Chung

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Excellent magnetic properties of Co_52.5Fe_22.5Hf₁₀O₁₅ thin films

Tho Luu Van

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2006 .11

Properties of HfSi_xO_y/HfO₂ film as a various Annealing Temperature

송유주 ,  박재경 ,  노용한

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .08

Investigation of HfO₂-Al₂O₃laminate and Hf - Al- O films with poly - Si Gates

J. Hua ,  S. W. Lee ,  H. J. Kang 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

RF Sputtering의 증착 조건에 따른 HfO₂ 박막의 Nanocrystal에 의한 Nano-Mechanics 특성 연구

김주영 ,  김수인 ,  이규영 외 7명

Applied Science and Convergence Technology

2012 .09

Unusual ALD Behaviors in Functional Oxide Films for Semiconductor Memories

Cheol Seong Hwang

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .08

Fabrication of dense Al2O3 thin films using UV-enhanced ALD at room temperature

윤관혁 ,  성명모

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .08

Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate

Soonkon Kim ,  Byoungdeog Choi

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate

Soonkon Kim ,  Byoungdeog Choi

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Energy loss function and inelastic scattering cross-section of ultrathin HfO₂, Al₂O₃ and Hf-Al-O films on Si(100)

김화 ,  강희재

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .02

범밀도함수론을 이용한 정방정계-HfO₂/Si의 계면 층 구조 연구

김대희 ,  서화일 ,  김영철

Applied Science and Convergence Technology

2009 .01

Effect of deposition temperature and thickness on surface properties of ALD TiO₂ films

장영문 ,  양병찬 ,  신정우 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Influence of O₂ Annealing on Electrical Characteristics of Atomic Layer Deposited HfO₂ thin Films on Si Substrate

Soonkon Kim ,  Byoungdeog Choi

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Investigation of band alignments of HfO₂ and Al₂O₃ thin films using XPS

Hua Jin ,  S. W. Lee ,  H. J. Kang 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

Characteristic analysis of HfO2 thin films deposited at low-temperature using direct plasma-enhanced atomic layer deposition

김경문 ,  윤순길 ,  정낙관

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Electrical Characteristics of Multi-Layered Al₂O₃/HfO₂/Al₂O₃ Gate Dielectric Films

Woojin Jeon ,  Byoungdeog Choi

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Characterization of Al2O3 Thin Film Encasulation by Plasma Assisted Spatial ALD Process for Organic Light Emitting Diodes

Sang Heon Yong ,  Sung Min Cho ,  Ho Kyoon Chung 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .02

Rf - magnetron 스퍼터링 법을 이용한 MOS 게이트용 HfO₂ / Hf - silicate 박막의 증착 및 특성 분석

이헌정 ,  배근학 ,  정동근 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2001 .02