Electrical Characteristics of Multi-Layered Al₂O₃/HfO₂/Al₂O₃ Gate Dielectric Films

Woojin Jeon ,  Byoungdeog Choi

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Properties of HfSi_xO_y/HfO₂ film as a various Annealing Temperature

송유주 ,  박재경 ,  노용한

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .08

Investigation of HfO₂-Al₂O₃laminate and Hf - Al- O films with poly - Si Gates

J. Hua ,  S. W. Lee ,  H. J. Kang 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

A comparative study of thickness measurement of nm HfO₂ thin films with XPS and HAXPS

Ansoon KIM ,  Risayo INOUE ,  Kyung Joong KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

RF Sputtering의 증착 조건에 따른 HfO₂ 박막의 Nanocrystal에 의한 Nano-Mechanics 특성 연구

김주영 ,  김수인 ,  이규영 외 7명

Applied Science and Convergence Technology

2012 .09

Transparent Thin Film Transistor using Al₂O₃/HfO₂ as Gate Insulator Layer

J. K. Pa ,  k ,  Yonghan Roh

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02

Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate

Soonkon Kim ,  Byoungdeog Choi

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate

Soonkon Kim ,  Byoungdeog Choi

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Applications of Ar Gas Cluster Ion Beam Sputtering to Ta₂O₅ thin films on SiO₂/Si (100)

Chanae Pa ,  k ,  HongChol Chae 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08

Characteristics of HfO2-Al2O3 Gate insulator films for thin Film Transistors by Pulsed Laser Deposition

Jae Won Hwang ,  Sang Woo Song ,  Mansik-Jo 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

범밀도함수론을 이용한 정방정계-HfO₂/Si의 계면 층 구조 연구

김대희 ,  서화일 ,  김영철

Applied Science and Convergence Technology

2009 .01

Analysis of corrosion on the Al(Cu 1%) surface using XPS

Sang-Gi Kim ,  Kyu-Ha Baek ,  Kwang-Ho Kwon 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

1997 .02

Analysis on interface trap density of MOS capacitor with Al-doped HfO₂ insulation layer

Jiho Seo ,  Changhwan Shin

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Influence of O₂ Annealing on Electrical Characteristics of Atomic Layer Deposited HfO₂ thin Films on Si Substrate

Soonkon Kim ,  Byoungdeog Choi

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Energy loss function and inelastic scattering cross-section of ultrathin HfO₂, Al₂O₃ and Hf-Al-O films on Si(100)

김화 ,  강희재

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .02

Characteristic analysis of HfO2 thin films deposited at low-temperature using direct plasma-enhanced atomic layer deposition

김경문 ,  윤순길 ,  정낙관

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2020 .02

Effect of Post Deposition Annealing in N₂ Ambient on Electrical Properties of Atomic Layer Deposited HfO₂ Films on Si

Soonkon Kim ,  Byoungdeog Choi

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2018 .08

Reset-first Resistance Switching Mechanism of HfO2 Films Based on Redox Reaction with Oxygen Drift-Diffusion

Jonggi Kim ,  Sunghoon Lee ,  Kyumin Lee 외 4명

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2012 .02

Characterization of In₂O₃ Films by AES and XPS

정재인 ,  문종호 ,  홍재화 외 2명

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1993 .07

Thermodynamic Stability and Interface Chemical Reaction in HfO₂Laminate Films

지현배 ,  이연승 ,  강희재 외 2명

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2003 .08