지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
등록된 정보가 없습니다.
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
ALD growth of HfO₂ thin films using Hf(mp)₄ and water
한국진공학회 학술발표회초록집
2004 .08
Characteristics of low-temperature at 80°C HfO2 deposited by ALD (Atomic Layer Deposition) and electrical properties of NMOS capacitor
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
용액 공정을 통한 HfO2/ZrO2 구조 차이에 따른 Dielectric layer의 특성 변화 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Electrical properties of solution processed HfO₂ gate dielectrics at low temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
범밀도함수론을 이용한 정방정계-HfO₂/Si의 계면 층 구조 연구
Applied Science and Convergence Technology
2009 .01
Effects of Temperature Stress on VFB Shifts of HfO2-SiO2 Double Gate Dielectrics Devices
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .08
Influence of O₂ Annealing on Electrical Characteristics of Atomic Layer Deposited HfO₂ thin Films on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
H₂O₂ effects of HfO₂ dielectric layers
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Structural and electrical characterization of CeO₂/HfO₂ as a gate dielectric deposited by r.f magnetron sputter
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
Effect of Post Deposition Annealing in N₂ Ambient on Electrical Properties of Atomic Layer Deposited HfO₂ Films on Si
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Initil ALD reactions of HfO₂ on Si(001) surface by in-situ synchrotron radiation photoelectron spectroscopy
한국진공학회 학술발표회초록집
2006 .02
X선회절을 이용한 Si / SiO₂ 및 Si / SiO₂ / poly - Si의 응력측정
한국진공학회 학술발표회초록집
1994 .02
Electrical Characteristics of Multi-Layered Al₂O₃/HfO₂/Al₂O₃ Gate Dielectric Films
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Properties of HfSixOy/HfO₂ film as a various Annealing Temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
SiO₂/Si₃N₄/SiO₂와 Si₃N₄/SiO₂/Si₃N₄ 터널 장벽을 사용한 금속 실리사이드 나노입자 비휘발성 메모리소자의 열적 안정성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
Electrical Characteristics in Field-Cycling of Zr:HfO₂ and Si:HfO₂ Ferroelectric Capacitors by First-order reversal curve diagram
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Al₂O₃/SiO₂, HfO₂/SiO₂ 적층 감지막의 두께 최적화를 통한 Electrolyte Insulator Semiconductor 소자의 pH 감지감도특성 비교
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
$HfO_2/Si$시스템의 계면산화막 및 고유전박막의 특성연구
한국결정학회 학술연구발표회
2002 .01
0