Reactive Ion Etching of InP and InGaP using Cl₂ gas with CH₄ and Ar Addition

Jae Su Yu; Jin Dong Song; Seong Ju Bae; Jong Min Kim; Yong Tak Lee

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: Jae Su Yu Jin Dong Song Seong Ju Bae Jong Min Kim Yong Tak Lee

저널정보: 한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제20회 학술발표회초록집

발행연도: 2001.2

수록면: 167 - 168 (2page)

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

2001

Reactive ion etching of GaAs, AlGaAs, and InGaP in Cl₂and CCl₂F₂ plasmas with Ar and H₂ addition

Jae Su Yu , Seong Ju Bae , Jin Dong Song 외 2명 한국진공학회 학술발표회초록집 2001.07 학술대회자료

Reactive Ion Etching of InP and InGaP using Cl₂ gas with CH₄ and Ar Addition

Jae Su Yu , Jin Dong Song , Seong Ju Bae 외 2명 한국진공학회 학술발표회초록집 2001.02 학술대회자료

2000

Comparing Reactive Ion Etching of GaAs with Ar Addition in SiCl₄ and CCl₂F₂ Discharges

Jae Su Yu , Seong Ju Bae , Yong Tak Lee 한국진공학회 학술발표회초록집 2000.07 학술대회자료

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