C₄F₈/O₂ 공정기체와 E-ICP를 이용한 산화막 식각

송호영 ,  조수범 ,  이종근 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2001 .06

나노 반도체 소자를 위한 펄스 플라즈마 식각 기술

양경채 ,  박성우 ,  신태호 외 1명

한국표면공학회지

2015 .12

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

Plasma and Reactive Ion Etching

전영진

대한전자공학회 단기강좌

1983 .01

Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발

박세근 ,  이종근 ,  조수범 외 3명

전기전자재료학회논문지

2002 .01

E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구

유한석 ,  양승국 ,  김한형 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2007 .07

E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구

유한석 ,  양승국 ,  김한형 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2007 .07

펄스직류방전과 유도결합방전의 복합에 의한 SCM440강의 이온질화

김윤기

한국표면공학회지

2010 .04

The Development of Cl-Plasma Etching Procedure for Si and SiO₂

Jong Woo Kim ,  Mi Young Jung ,  Sung Soo Choi 외 1명

한국표면공학회지

2001 .10

Plasma Characteristics of (DF-ICP) Dual Frequency Inductively Coupled Pulsed Plasma Source

Jin. Seock. Seo ,  Kyung ,  Jun 외 6명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Plasma Etching of SiO₂ Using Remote-type Pin-To Plate Dielectric Barrier Discharge

Jae Beom Pa ,  k ,  Se Jin Kyung 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

ICP 식각 시스템에 의한 초전도 스트립 라인의 임계 특성 분석

고석철 ,  한병성 ,  최효상 외 2명

전기전자재료학회논문지

2004 .01

The Use of Inductively Coupled CF4/Ar Plasma to Improve the Etch Rate of ZrO2 Thin Films

김한수 ,  김창일 ,  우종창 외 1명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2013 .01

Mechanism of SiO2 etching in fluorocarbon plasmas

조성운 ,  김창구

한국에너지학회 학술발표회

2014 .04

SiO₂ 식각 특성 개선을 위한 E-ICP와 ICP 식각 비교

정재성 ,  김진우 ,  라상호 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1999 .11

Etching Characteristics of Contact Holes with a Phase-Controlled Pulsed Inductively Coupled Plasma

신경섭 ,  강창진 ,  정철 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Effect of $O_2$ or $NF_3$ plasma treatments on contaminated silicon surface due to $CHF_{3}/C_{2}F_{6}$ reactive ion etching

박형호 ,  권광호 ,  곽병화 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using $C_2F_6$ and $BCl_3-based$ gas Plasmas

강동진 ,  이건교 ,  이병택

한국재료학회 학술발표대회

2006 .01

3차원 소자 제작을 위한 ICP Type Remote PEALD를 이용한 저온(< 300℃) SiO₂ 및 SiON 박막 공정

김대현 ,  박태주

반도체디스플레이기술학회지

2019 .01

Plasma etching behavior of RE-Si-Al-O glass (RE: Y, La, Gd)

이정기 ,  황성진 ,  이성민 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2010 .01