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플라즈마 증착된 Tungsten Nitride barrier layer에 의한 Al spiking 억제효과
대한전자공학회 학술대회
1992 .06
Magnetron sputtering 법으로 제조된 Al-1%Cu/Tungsten Nitride 다층 박막
한국재료학회지
2000 .01
A Study on the Anisotropic Etching of Tungsten-Nitride Using SF6 Plasma
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Influence of the O/Al ratio on the properties of Al₂O₃ barrier layers deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2013 .10
포스트 플라즈마를 이용한 질화의 질화층 형성에 미치는 전처리의 영향에 대한 연구
열처리공학회지
2005 .01
플라즈마질화시 방전가스중 질소가스의 비율이 공구강(SKH51)의 질화층 및 미소경도에 미치는 영향
한국재료학회지
2002 .01
Reactive Sputtering 법으로 제조된 Tungsten Nitride 박막의 열적 안정성 및 전기저항
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
A Research on the Anisotropic Etching of Tungsten-Nitride for X-Ray Mask
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
저압가스질화에서 탄소강의 초기 화합물층 형성 거동
한국표면공학회지
2011 .06
근피로도 측정을 위한 중간 주파수와 Spike 파라미터의 신뢰도 비교 및 향상된 Spike 검출 알고리듬에 관한 연구
전기학회논문지 D
2004 .05
플라즈마 질소이온 주입한 초경공구의 미세구조 특성
한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집
2014 .04
플라즈마질화에서 발생기 질소와 질화 속도에 관한 연구
열처리공학회지
2010 .01
플라즈마 이온질화 공정온도에 따른 스테인리스강 질화층의 표면 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2012 .11
알루미늄 중첩길이가 Spike에 미치는 영향 ( The Effect of Aluminum Overlap Length on Spike )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
알루미늄 중첩길이가 Spike에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1985 .06
레이저 국소증착을 이용한 TFT-LCD 회로 수정용 미세 텅스텐 패턴 제조
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2005 .08
The Corrosion and Electrical Properties of AISI 316L by Plasma Nitriding for PEMFC
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
Controllable layer by layer plasma etching for hexagonal Boron Nitride
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
ICP 플라즈마를 이용한 W$N_{x}$의 이방성 식각
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
MOCVD Titanium Nitride ( TiN ) Barrier Layer for Highly Reliable Aluminium ( Al ) Based Multilevel Metallization
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
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