W Etching for Sub-half Micron using the Helicon High Density Plasma

Seoung Wook Lee ,  Chang Ju Choi ,  Yeo Song Seol 외 1명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

Helicon wave에 의하여 여기된 Ar 플라즈마 특성

김태영 ,  정기형 ,  이승학 외 1명

한국표면공학회지

1994 .12

C₄F₈/H₂ helicon wave 플라즈마를 이용한 contact 산화막 식각 공정시 과식각된 실리콘 표면의 잔류막과 손상층 형성 및 이의 제거에 관한 연구

김현수 ,  이원정 ,  백종태 외 1명

한국표면공학회지

1998 .04

헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택 산화막 식각 ( A High Selectivity Oxide Etching with a Helicon Plasma )

김윤택 ,  김정훈 ,  김진성 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Helicon Wave 플라즈마 보조 증발법을 이용한 ZnO 박막의 성장과 특성 평가

박태희 ,  김경보 ,  김기성 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2001 .01

헬리콘 플라즈마 물성특성 및 식각응용에 관한 연구

이병일 ,  도현호 ,  양일동 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1993 .11

Al Etch and After-Corrosion Characteristics in a M=0 Helicon Wave Plasma Etcher

Jae Hee Ha ,  M. H. Yim ,  J. J. Kim

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Effects of Feed Gas Chemistry on Sf6 Based Tungsten Etching in a Helicon Etcher

정중택 ,  조윤석 ,  오진성 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Helicon Wave Plasma 보조 증발법을 이용한 ZnO/si(111) 박막의 성장과 특성 평가

이두영 ,  박태희 ,  김기성 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2002 .01

On the mechanism of power distribution in multiple ICP and Helicon sources

J.W. Lee ,  Sang-Hyuk An ,  H.Y. Chang

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

헬리콘 플라즈마원의 특성

현준원 ,  노승정 ,  김경례 외 2명

한국표면공학회지

1999 .12

Carbon Nanotube Deposition using Helicon Plasma CVD at Low Temperature

Mu ,  oyama ,  Masakazu 외 10명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2003 .01

헬리콘 플라즈마 원을 이용한 우주 추진체의 특성

최근식 ,  우현종 ,  정규선 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

2005 .11

Sub-Half Micron Contact 식각에서 Post Etch Treatment 연구

박병준 ,  김진웅 ,  김상욱 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1995 .01

A Study on the Plasma Etching of Ru Electrodes using O2/Cl2 Helicon Discharges

HyounWooKim ,  WoonSukHwang

Corrosion Science and Technology

2003 .01

X-선 마스크 제작을 위한 텅스텐 식각

정창영 ,  송기창 ,  전영삼 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

SF6 플라즈마를 이용한 텅스텐 박막의 반응성 이온식각에 관한 실험적 연구 ( Experimental Study of Reactive Ion Etching of Tungsten Films Using SF6 Plasma )

박상규 ,  서성우 ,  이시우

전자공학회논문지-A

1993 .07

고선택비 산화막 식각공정시 C₄F₈ 헬리콘 웨이브 플라즈마에 노출된 실리콘 표면의 잔류막 관찰

김현수 ,  이원정 ,  염근영

한국표면공학회지

1999 .04

TYNGSTEN ETCHBACK PROCESS FOR SUB-HALF MICRON CONTACTS USING HELICON HIGH DENSITY PLASMA

Kwon ,  O.Sung ,  Choi 외 7명

Fabrication and Characterization of Advanced Materials

1995 .01