고선택비 산화막 식각공정시 C₄F₈ 헬리콘 웨이브 플라즈마에 노출된 실리콘 표면의 잔류막 관찰

김현수 ,  이원정 ,  염근영

한국표면공학회지

1999 .04

헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택 산화막 식각 ( A High Selectivity Oxide Etching with a Helicon Plasma )

김윤택 ,  김정훈 ,  김진성 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Helicon 고밀도 플라즈마를 이용한 0.5mm 이하의 텅스텐 식각 공정 연구 ( Helicon High Density Plasma Etching for Sub-Half Micron Tungsten Interconnections )

이승욱 ,  최창주 ,  설여송 외 1명

대한전자공학회 워크샵

1996 .01

Helicon wave에 의하여 여기된 Ar 플라즈마 특성

김태영 ,  정기형 ,  이승학 외 1명

한국표면공학회지

1994 .12

Helicon Wave 플라즈마 보조 증발법을 이용한 ZnO 박막의 성장과 특성 평가

박태희 ,  김경보 ,  김기성 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2001 .01

헬리콘 플라즈마 물성특성 및 식각응용에 관한 연구

이병일 ,  도현호 ,  양일동 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1993 .11

Al Etch and After-Corrosion Characteristics in a M=0 Helicon Wave Plasma Etcher

Jae Hee Ha ,  M. H. Yim ,  J. J. Kim

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Helicon Wave Plasma 보조 증발법을 이용한 ZnO/si(111) 박막의 성장과 특성 평가

이두영 ,  박태희 ,  김기성 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2002 .01

W Etching for Sub-half Micron using the Helicon High Density Plasma

Seoung Wook Lee ,  Chang Ju Choi ,  Yeo Song Seol 외 1명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

고밀도 플라즈마를 이용한 contact hole 식각에서 공정 변수에 따른 식각 특성

김관하 ,  김창일

대한전기학회 학술대회 논문집

2006 .07

고선택비 산화막 식각공정시 실리콘 표면에 형성된 잔류막 제거와 후속 실리사이드 형성에 미치는 영향에 관한 연구

이원정 ,  김현수 ,  염근영 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Etching Parameter on Gate Oxide Damage during Plasma Etching )

김종호 ,  이석현 ,  신기수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .07

플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향

김정호 ,  이석현 ,  신기수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .07

On the mechanism of power distribution in multiple ICP and Helicon sources

J.W. Lee ,  Sang-Hyuk An ,  H.Y. Chang

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

NLD Plasma 식각 공정을 이용한 $LiNbO_3$ 광 도파로의 식각 Profile의 특성

박우정 ,  양우석 ,  이승태 외 4명

한국재료학회 학술발표대회

2003 .01

Cl/HBr/O 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성

이원규

화학공학

2009 .01

MEMS기반 에너지 하베스터 제작을 위한 실리콘 KOH 식각 모형화

민철홍 ,  김태선 ,  강경우

전기전자재료학회논문지

2012 .01