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고집적 회로용 전해 도금 구리의 형성
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
Metallization
대한전자공학회 단기강좌
1982 .01
ULSI Cell Technology
전자공학회지
1992 .05
Reliable Al-alloy Via Structure over CVD W for Multilevel Metallization
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
Characteristics research of Cu-doped Programmable Metallization Cell
대한전기학회 학술대회 논문집
2008 .07
Cu를 도핑시킨 Programmable Metallization Cell의 특성연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2008 .07
ULSI에 적용될 전해증착 구리의 신뢰성에 미치는 열처리 효과
한국재료학회 학술발표대회
2000 .01
Sputtering과 Metallization
섬유기술과 산업
2009 .01
Character of Copper Films on Molybdenum Substrate by Addition of Titanium in an Advanced Metallization Process
한국재료학회 학술발표대회
2007 .01
Characteristics of Amorphous Ta-Si-N Thin Film for Cu Metallization
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
SPUTTERING TECHNOLOGY FOR ULSI REQUIREMENTS
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1989 .01
The Effect of Density and Microstructure on the Performance of TiN Barrier Films in Cu Metallization
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
A Design of BIST Circuit for Testing ULSI DRAM
ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications
1995 .08
A Design of BIST Circuit for Testing ULSI DRAM
ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications
1995 .01
New process for the Magnesium Metallization
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
Thermal Nitride for Future ULSI Applications
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Metallization Technology in DRAM
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
Advanced Sputtering Target for V & ULSI Application
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1991 .01
Mo 하지층의 첨가원소(Ti) 농도에 따른 Cu 박막의 특성
한국재료학회지
2007 .01
ULSI DRAM을 이용한 새로운 구조의 캐패시터 ( The Noble Capacitor Structure for ULSI DRAM )
대한전자공학회 학술대회
1992 .11
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