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저자정보
Dong-Wook Byun (Kwangwoon University) Young-Jae Lee (Kwangwoon University) Jong-Min Oh (Kwangwoon University) Michael A. Schweitz (Kwangwoon University) Sang-Mo Koo (Kwangwoon University)
저널정보
대한금속·재료학회 Electronic Materials Letters Electronic Materials Letters Vol.17 No.6
발행연도
2021.11
수록면
479 - 484 (6page)

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ß-Ga 2 O 3 /4H-SiC heterojunction diodes were fabricated by depositing β-Ga 2 O 3 thin fi lms on 4H-SiC substrates using radiofrequency sputtering. X-ray diff raction (XRD) analysis revealed increased refl ectivity of β-Ga 2 O 3 ( 4 02), ( 2 02) and ( 6 03)crystal planes with optimized sputtering power. Scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM)were performed to confi rm grain size and distribution. The Hall mobility (30.16 cm 2 /V ? s) and carrier concentration (3.14× 101 4 cm? 3) showed with large and homogeneous grain distribution thin fi lms. For these thin fi lms, mobility and carrierconcentration value could improve up to 9% and 55%. The eff ect of these electrical characteristics was ascribed to reductionof the grain boundary scattering. The I?V characteristics along with Hall measurement of the heterojunction diode suggestthat the improvement in the threshold voltage and current density is caused by a substantial enhancement in charge carriermobility.

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