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이영재 (광운대학교) 조슬기 (광운대학교 전자재료공학과) 서지호 (광운대학교) 민성지 (광운대학교) 안재인 (광운대학교 전자재료공학과) 오종민 (광운대학교) 구상모 (광운대학교) 이대석 (광운대학교)
저널정보
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제31권 제6호
발행연도
2018.9
수록면
367 - 371 (5page)
DOI
https://doi.org/10.4313/JKEM.2018.31.6.367

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1,200 V class junction barrier schottky (JBS) diodes and schottky barrier diodes (SBD) were simultaneouslyfabricated on the same 4H-SiC wafer. The resulting diodes were characterized at temperatures from room temperatureto 473 K and subsequently compared in terms of their respective I-V characteristics. The parameters deduced from theobserved I-V measurements, including ideality factor and series resistance, indicate that, as the temperature increases, thethreshold voltage decreases whereas the ideality factor and barrier height increase. As JBS diodes have both Schottkyand PN junction structures, the proper depletion layer thickness, Ron, and electron mobility values must be determinedin order to produce diodes with an effective barrier height. The comparison results showed that the JBS diodes exhibita larger effective barrier height compared to the SBDs.

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