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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2017.12
- 수록면
- 794 - 799 (6page)
- DOI
- https://doi.org/10.4313/JKEM.2017.30.12.794
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갈륨도핑을 위해 5%의 Ga2O3를 함유한 ZnO 타겟으로 유리기판 위에 RF 마그네트론 스퍼터링 법으로 갈륨이 포함된 ZnO(GZO) 박막을 증착하였다. 기판온도의 변화에 대한 GZO 박막의 구조적, 전기적 및 광학특성을 조사하였다. 기판온도가 상온에서 350°C 로 바뀌면 증착률은 감소하였다. 유리기판에 수직인 c-축의 전형적인 배열을 보였고 결정립의 크기는 300°C까지는 증가하였으나 350°C에서는 감소하였다. 300°C에서 증착된 GZO 박막의 저항율은 7 × 10-4Ωcm 이고 전송자의 밀도와 이동도에 의존함을 보였다. 두께 3000Å의 박막에서 광투과도는 기판온도와 무관하게 80% 이상이었다.
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M. Sahal / 2008 / Structural, electrical and optical properties of ZnO thin films deposited by sol–gel method / Microelectronics Journal 39(12):1425~1428
Tadatsugu Minami / 1999 / Stability of transparent conducting oxide films for use at high temperatures / Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 17(4):1822~1826
R. Cebulla / 1998 / Al-doped zinc oxide films deposited by simultaneous rf and dc excitation of a magnetron plasma: Relationships between plasma parameters and structural and electrical film properties / Journal of Applied Physics 83(2):1087~1095
Kikuo Tominaga / 1997 / Film properties of ZnO:Al prepared by cosputtering of ZnO:Al and either Zn or Al targets / Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 15(3):1074~1079
Kyu Ung Sim / 2010 / Effects of dopant (Al, Ga, and In) on the characteristics of ZnO thin films prepared by RF magnetron sputtering system / Current Applied Physics 10(3):463~467
Tadatsugu Minami / 1999 / Stability of transparent conducting oxide films for use at high temperatures / Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 17(4):1822~1826
R. Cebulla / 1998 / Al-doped zinc oxide films deposited by simultaneous rf and dc excitation of a magnetron plasma: Relationships between plasma parameters and structural and electrical film properties / Journal of Applied Physics 83(2):1087~1095
Kikuo Tominaga / 1997 / Film properties of ZnO:Al prepared by cosputtering of ZnO:Al and either Zn or Al targets / Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 15(3):1074~1079
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