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원자층 식각기술
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C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
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2017 .08
Effects of surface etching on microstructure and mechanical strength of carbon fibers
Carbon letters
2018 .01
식각된 LED의 식각 깊이와 식각 각도가 광 추출 효율에 미치는 영향
새물리
2020 .10
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
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2018 .02
Magnetic Properties and Hysteresis Loss Improvement of Fe Alloy Powder by NH₄OH Etching
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2017 .05
Atomic layer etching of SiO₂ with low-global warming potential C₄H₃F₇O isomers
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
다양한 etch gas를 이용한 자성 박막의 식각특성 분석
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2017 .02
Sub-10 nm 수직 배향 DSA etch profile 향상에 대한 연구
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2020 .02
A study on the ion beam etching characteristics in the high aspect ratio contact
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2016 .08
Etching for Vertical Sidewall Formation in TiO₂ Nanorods
Applied Science and Convergence Technology
2022 .09
A perspective on patents on dry etching apparatus
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2016 .08
The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes
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2016 .08
Effects of pulsed inductively coupled Cl₂/Ar plasma for the etching of Si nanostructure
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2020 .02
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Characteristics of SiO₂ Etching by Capacitively Coupled Plasma with Different Fluorocarbon Liquids (C7F14, C7F8) and Fluorocarbon Gas (C₄F8)
Applied Science and Convergence Technology
2021 .07
Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique
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2015 .02
Plasma Etching Process based on Real-time Monitoring of Radical Density and Substrate Temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Ar/C₄F6/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
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