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실리콘 나노선을 제작하기 위해 가장 많이 사용하는 방법 중 하나인 metal-assisted etching에서 촉매로 작용하는 귀금속의 구조가 제작된 나노선의 표면 구조에 미치는 영향을 알아봤다. 먼저 실리콘 기판을 나노선 모양으로 식각하기 위하여 구멍 어레이 구조를 포함한 금 박막을 두가지 방법으로 제작하였다. 두가지 제작법으로는 크게 양극 산화 알루미늄 (Anodic aluminum oxide, AAO) 을 패터닝 기판으로 사용하는 방법과, 폴리스티렌 (Polystyrene, PS) 를 이용한 패터닝 방법을 택했다. AAO를 이용하여 제작한 금 촉매의 구멍은 모양이 원형에 가까우며 경계면의 거칠기가 매우 낮았다. 반면, PS를 이용하여 제작한 금 촉매의 구멍은 경계면에 거칠기가 존재하였다. 각각의 방법으로 준비한 금 박막을 촉매로 사용하여 metal-assisted etching으로 제작한 나노선을 제작하였다. AAO를 기반으로 하는 실리콘 나노선의 표면은 매우 매끈한 구조를 보였으며 표면 거칠기가 거의 존재하지 않음을 확인할 수 있었다. 반면 PS를 기반으로 하는 실리콘 나노선의 표면은 수직 줄무늬와 함께 상대적으로 높은 거칠기를 보였다.
목차
I. Introduction
II. Experiments
III. Results
IV. Conclusion
REFERENCES
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