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논문 기본 정보

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저자정보
김종호 (과학기술연합대학원대학교) 문지훈 (한국표준과학연구원) 강상우 (과학기술연합대학원대학교)
저널정보
한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 2021년 한국진공학회 제60회 동계정기학술대회 초록집
발행연도
2021.2
수록면
226 - 226 (1page)

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반도체 공정에서 발생하는 오염입자는 전 공정 마지막 단계에서 wafer full inspection 방식을 통해 관리되었다. 이 방식은 정확한 측정이 가능하지만. lot-to-lot 방식의 비 실시간방식이기에, 첨단반도체 공정관리를 위한 wafer-to-wafer 방식의 실시간 진단 센서 개발이 현장 중심으로 요구되고 있다. 본 연 ... 전체 초록 보기

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