펄스 RF 입력 비율에 따른 SiO₂ 건식 식각 능력의 변화에 대한 연구

한상범; 김소영

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 한상범 (성균관대학교) 김소영 (성균관대학교)

저널정보: 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 2020년도 대한전자공학회 하계종합학술대회 논문집

발행연도: 2020.8

수록면: 531 - 533 (3page)

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한상범

소속기관 성균관대학교

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전자공학

논문수 2 이용수 79

김소영

소속기관 건국대학교

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전자공학 TOP 0.5% 공학 > 전기전자공학 > 정보통신공학

논문수 106 이용수 14,954

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2020-569-001128881

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AI 학습용 데이터	기본 메타	발행기관명, 간행물명, 권호명, 권(vol), 호(issue), 통권, 발행연도, 발행월, 논문명, 저자명, 시작페이지, 종료페이지, 전체페이지, 상세페이지URL
상세 메타 데이터	발행기관 메타	발행기관 이명, 영문명, 창립연도, 홈페이지URL, 발행기관 소개
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	저자 메타	소속기관, 소속부서, 직급, 연구분야, 연구키워드, 이용수, 피인용수, 저자 논문활용도

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