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학술저널
저자정보
명종윤 (고려대학교 재료공학과) 전법주 (한국과학기술연구원 나노환경연구센터) 변동진 (고려대학교 재료공학과) 이중기 (한국과학기술연구원 나노환경연구센터)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제15권 제7호
발행연도
2005.1
수록면
465 - 472 (8page)

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Preparation of copper film on PET substrate was carried out by cyclic operation of RF-magnetron­sputtering under continuous operation of ECR-CVD. The purpose of this study is aimed to an increase in deposition rate with keeping excellent adhesion between copper film and PET. In order to optimize the sputtering time under continuous ECR-CVD, cyclic operation concept is employed. By changing parameters of cyclic operation such as split of e and cycle time of A, the characteristics and thickness of the deposited copper film are controlled. As $\theta$ value increase, film thickness could confirm to increase and its surface resistivity value decreases. The highest adhesive strength appears at $\theta=0.33$ and cycle time of 30 min. The uniformity of copper film shows $5\%$ in our experimental range.
#Cyclic operation #ECR-CVD #RF magnetron sputter #Copper film

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