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학술저널
저자정보
배창환 (호서대학교 혁신기술경영융합대학원 메카트로닉스공학과) 이주희 (호서대학교 혁신기술경영융합대학원 메카트로닉스공학과) 한창석 (호서대학교 국방과학기술학과)
저널정보
한국열처리공학회 열처리공학회지 열처리공학회지 제22권 제3호
발행연도
2009.1
수록면
143 - 148 (6page)

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We have fabricated Ti metal films on Cu wire substrates by using a RF magnetron sputtering method at different RF powers (0, 30 and 60 W) in a high vacuum, and we have investigated the thin film characteristics and resistivity. The ion bombardment effect is increased by the method to superimpose RF power to DC power applied to two poles of the base; thus, the thin film is deposited at sputtering gas pressures below 1 Pa. Moreover, the thin film formation of the multilayer structure becomes possible by gradually injecting the RF power, and the thin film quality is improved.
#RF magnetron sputtering #thin film #low pressure sputtering #ion bombardment effect

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