ECRPCVD 방법을 이용한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 증착과 광학적 특성에 관한 연구 ( Deposition and Optical Characteristics of the Hydrogenated Amorphous Silicon Films Using ECR Plasma CVD )

김용일 ,  이진엽 ,  강문상 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .07

ECR CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막의 증착 조건과 광학적 특성

강문상 ,  김재영 ,  전법주 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막의 증착 조건과 광학적 특성 ( The Deposition Condition and Optical Characteristics of A-Si : H Films Deposited By ECR CVD )

강문상 ,  김재영 ,  전법주 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR CVD를 이용한 SiO₂ 박막 특성에 관한 연구

윤석규 ,  강문상 ,  김재영 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR CVD를 이용한 SiO2 박막 특성에 관한 연구 ( A Study on The Electrical Characteristics of SiO2 Prepared By ECR CVD )

윤석규 ,  강문상 ,  김재영 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR 플라즈마를 이용한 실리콘질화박막 증착

송선규 ,  장홍영

한국표면공학회지

1990 .12

ECR CVD 방법에 의한 Fluorinated Silicon Oxide의 증착특성 연구

장원익 ,  강승열 ,  백종태

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Laser CVD에 의한 비정질 실리콘 박막 형성에 관한 연구

유환성 ,  박근영 ,  류지호 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

1993 .07

Laser CVD에 의한 비정질 실리콘 박막 형성

박근영 ,  유환성 ,  류지호 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1993 .07

A Study on the C-V Voltage Shift of SiO2 Films Prepared By ECR CVD

이현 ,  윤석규 ,  강문상 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

ECR plasma를 이용한 실리콘 산화 박막 성장 및 특성연구

안명환 ,  윤창주 ,  이기방 외 9명

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

새로운 X 선 마스트 기판재료로서 ECR plasma CVD를 이용한 carbon nitride 재료의 개발

강정호 ,  이승윤 ,  임승택 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

새로운 CVD 방법에 의하여 제작된 실리콘 박막의 특성 연구 ( Characterization of Silicon Thin Films Prepared by New CVD Technique )

김성철 ,  이승규 ,  정창영 외 5명

대한전자공학회 학술대회

1989 .07

ECR CVD를 이용한 x-ray lithography membrane용 SiC의 증착

이승윤 ,  송기창 ,  이규한 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

ECR 플라즈마에 의해 형성된 실리콘 질화막의 전기적 특성 ( Electrical Properties of Silicon Nitride Thin Films Formed by ECR Plasma )

구본영 ,  전유찬 ,  주승기

전자공학회논문지-A

1992 .10

RP-CVD에 의한 비정질 실리콘 박막의 특성 ( Characterization of a-Si : H films deposited by a remote plasma CVD )

황정태 ,  정창영 ,  정관수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1989 .11

ECR의 원리를 이용한 플라즈마 가열장치에 대한 연구

김원섭

대한전기학회 학술대회 논문집

2002 .07

Remote Plasma Enhanced CVD에 의한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 제작 및 특성 연구 ( Fabrication and Characterization of a-Si : H Films by a Remote Plasma Enhanced CVD )

양영식 ,  윤여진 ,  장진

대한전자공학회 학술대회

1987 .07

Deposition of Low Stress , High Transmittance SiC as an X-Ray Mask Membrane Using ECR Plasma CVD

이승윤 ,  송기창 ,  전영삼 외 8명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

광 CVD법으로 제작한 비정질 실리콘 태양전지의 p/i 계면의 in-situ 수소처리 효과

장재훈 ,  임굉수

대한전자공학회 학술대회

1995 .12