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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
한창석 (호서대학교 국방과학기술학과) 전창환 (호서대학교 국방과학기술학과) 한승오 (호서대학교 융합기술연구소)
저널정보
한국열처리공학회 열처리공학회지 열처리공학회지 제21권 제5호
발행연도
2008.1
수록면
235 - 243 (9page)

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Ni-C composite films were prepared using a combination of microwave plasma CVD and ion beam sputtering deposition working in a codeposition way. The structure of these films was characterized by energy-dispersive X-ray diffraction (EDXRD), transmission electron microscopy (TEM) and Raman spectroscopy. It was found that a nickel carbide phase, $Ni_3C$ (hcp), formed as very fine crystallites over a wide temperature range when Ni-C films were deposited at low $CH_4$ flow rates. The thermal stability of this nonequilibrium carbide $Ni_3C$ was also studied. As a result, the $Ni_3C$ carbide was found to decompose into nickel and graphite at around $400^{\circ}C$. With high $CH_4$ flow rates (> 0.2 sccm), the structure of the Ni-C films became amorphous. The formation behavior of the carbide and amorphous Ni-C phases are discussed in relation to the electrical resistivity of the films.
#Microwave plasma CVD #Ion beam sputtering #Nickel carbide phase #Electrical resistivity

목차

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참고문헌 (18)

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A. M. Hussain / 1997 / Grazing incidence and multilayer x-ray optical systems :260 google schola N. Laidani / 1998 / Surface & coatings technology 100:116 google schola T. Tanaka / 1992 / Metall. Trans 23A:2341 google schola J. Wang / 1992 / Acta Metall. Mater 40:1417 google schola R. Lamber / 1989 / Surface Science 197:402 google schola

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