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In this study, 2 wt% Cr-doped Ni thin films were deposited using DC sputtering on a bare Si substrate using a 4 inch target at room temperature. In order to obtain ultrathin films from Cr-doped Ni thin films with high electrical properties and uniform surface, the microstructure and electrical properties were investigated as a function of deposition time. For all deposition times, the Cr-doped Ni thin films had low average resistivity and small surface roughness. However, the resistivity of the Cr-doped Ni thin films at various ranges showed large differences for deposition times below 90 s. From the results, 120 s is considered as the appropriate deposition time for Cr-doped Ni thin films to obtain the lowest resistivity, a low surface roughness, and a small difference of resistivity. The Cr-doped Ni thin films are prospective materials for microdevices as ultrathin film electrodes.
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C. -M. Wang / 2011 / Microstructure of the native oxide layer on Ni and Crdoped Ni nanoparticles / Journal of nanoscience and nanotechnology 11 (10) : 8488 ~ 8497
C. Lee / 2007 / Electromigration effect of Ni electrodes on the resistive switching characteristics of NiO thin films / Physics Letters 91 (8)
G. Nocerino / 1979 / The electrical and compositional structure of thin Ni-Cr films / Thin Solid Films 57 (2) : 343 ~ 348
H. Yim / 2013 / Synthesis and dielectric properties of HCa2Nb3O10 layered structure ceramics / Ceramics International 39 (1) : 611 ~ 614
K. Kawabata / 2001 / High rate sputtering for Ni films by an rf-dc coupled magnetron sputtering system with multipolar magnetic plasma confinement / Journal of Vacuum Science
C. Lee / 2007 / Electromigration effect of Ni electrodes on the resistive switching characteristics of NiO thin films / Physics Letters 91 (8)
G. Nocerino / 1979 / The electrical and compositional structure of thin Ni-Cr films / Thin Solid Films 57 (2) : 343 ~ 348
H. Yim / 2013 / Synthesis and dielectric properties of HCa2Nb3O10 layered structure ceramics / Ceramics International 39 (1) : 611 ~ 614
K. Kawabata / 2001 / High rate sputtering for Ni films by an rf-dc coupled magnetron sputtering system with multipolar magnetic plasma confinement / Journal of Vacuum Science
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