Al2O3 기판위에 형성된 Ti-O 완충층을 가진 Ta/Ta2O5/Ta 커패시터의 특성

김현주 ,  송재성 ,  김인성 외 1명

전기전자재료학회논문지

2003 .01

열처리 온도에 따른 $Ta_2O_5$ 박막의 특성변화

강필규 ,  진정근 ,  노대호 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2003 .01

MOS 구조에서의 원자층 증착 방법에 의한 Ta₂O₅ 박막의 전기적 특성에 관한 연구

李炯錫 ,  張珍瑉 ,  林長權 외 4명

전기학회논문지 C

2003 .04

Ta₂O₅의 유전 특성과 열 안정성에 관한 연구

김인성 ,  송재성 ,  이동윤 외 2명

대한전기학회 학술대회 논문집

2001 .07

THE EFFECTS OF PRE-TREATMENT ON $Ta_2O_5$ DIELECTRICS FOR A DRAM CAPACITOR

Nam ,  K.J. ,  Hyung 외 6명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

ALD로 성장시킨 $Ta_2O_5$ 박막의 열처리에 따른 특성변화

이재웅 ,  함문호 ,  김형준 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2006 .01

Al₂O₃ 기판 위에 제작된 Ta/Ta₂O₅/Ta 박막 커패시터의 전기적 특성

김현주 ,  송재성 ,  김인성 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

2003 .07

Ta₂O₅ 커패시터 박막의 유전 특성과 열 안정성에 관한 연구

金寅性 ,  李東胤 ,  宋在成 외 2명

전기학회논문지 C

2002 .05

통계적 실험 방법에 의한 Ta 박막의 증착 특성 연구

서유석 ,  박대규 ,  정철모 외 6명

한국재료학회지

2001 .01

열처리 조건이 PECVD방식으로 증착된 Ta2O5 박막 특성에 미치는 영향 ( Effect of Annealing Conditions on Ta2O5 Thin Films Deposited By PECVD System )

백용구 ,  은용석 ,  박영진 외 2명

전자공학회논문지-A

1993 .08

TaO 고유전박막의 미세조직과 열적안정성

민석홍 ,  정병길 ,  최재호 외 5명

한국재료학회지

2002 .01

B-TA 기술

이창범

한국통신학회 워크샵

1995 .01

DRAM 커패시터용 $Ta_2O_5$ 박막의 전기적 특성에 미치는 전극의존성

김영욱 ,  권기원 ,  하정민 외 3명

한국재료학회지

1991 .01

$SnO_2$ 박막을 이용한 ${Ta_2}{O_5}$박막 커패시터의유전특성

김진석 ,  정강민 ,  이문희

한국재료학회지

1994 .01

B-TA 기술 개발

전경표

한국통신학회 워크샵

1996 .01

열처리 조건이 PECVD $Ta_{2}O_{5}$ 박막 특성에 미치는 영향

백용구 ,  박영진 ,  김종철 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

CVD법으로 제작한 $_{(1-x)}Ta_2O_{5-x}TiO_2$ 박막의 열처리 온도에 따른 특성변화

강필규 ,  진정근 ,  강호재 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

2003 .01

High-k Thin Films by Atomic Layer Deposition for Energy and Information Storage

안지환

Journal of the Korean Society for Precision Engineering

2018 .12

Gate dielectric SiO2 film deposition on poly Silicon using UV-excited ozone gas without heating substrate.

Kameda ,  Naoto ,  Nishiguchi 외 13명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2007 .01