Novel Robust Structure and High k Dielectric Material for 90 ㎚ DRAM Capacitor

Y.K. Pa ,  k ,  Y.S. Ahn 외 4명

JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE

2003 .06

Ta2O5 Capacitor의 열적 열화 Mechanism과 64Mbit DRAM 적용

박순오 ,  권기원 ,  강창석 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

DRAM 커패시터용 $Ta_2O_5$ 박막의 전기적 특성에 미치는 전극의존성

김영욱 ,  권기원 ,  하정민 외 3명

한국재료학회지

1991 .01

THE EFFECT OF DIELECTRIC RELAXATION ON DRAM OPERATION

Jang ,  Byung-Tak ,  Cha 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

DRAM 특집을 내면서

진대제

전기의세계

1989 .04

256Mbit 및 그 이후 세대 DRAM을 위한 소자분리 및 Capacitor 기술 ( Isolation and Capacitor Technologies for 256M Bit DRAMs and Beyond )

강호규

대한전자공학회 학술대회

1995 .01

Ta₂O₅의 유전 특성과 열 안정성에 관한 연구

김인성 ,  송재성 ,  이동윤 외 2명

대한전기학회 학술대회 논문집

2001 .07

256M DRAM 급 이상의 Capacitor 유전체용 PLT 박막의 제조 및 특성평가

이승석 ,  김호기

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01

256Mbit DRAM용 Capacitor Technology

안성태

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

256K DRAM의 신뢰성

한국전자산업진흥회

전자진흥

1985 .01

DRAM의 한계

박영준

전기의세계

1989 .04

ECC를 적용한 DRAM의 초기화 시간 최소화 방법

노종성 ,  김종태

대한전기학회 학술대회 논문집

2006 .10

고집적 DRAM을 위한 새로운 셀 커패시터 ( A Novel Coated Fin Capacitor ( CFC ) for High Density DRAMs )

김영필 ,  조용수 ,  이권재 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .01

Al₂O₃ 기판 위에 제작된 Ta/Ta₂O₅/Ta 박막 커패시터의 전기적 특성

김현주 ,  송재성 ,  김인성 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

2003 .07

DRAM의 성능 향상을 위한 Pre-Refresh 기법

조민신 ,  한경호 ,  장우영

한국정보기술학회논문지

2018 .10

ULSI DRAM의 Capacitor 절연막용 BST 박막의 제작과 특성에 관한 연구 ( Preparation and Properties of BST Thin Films for the Capacitor Dielectrics of ULSI DRAM's )

류정선 ,  강성준 ,  윤영섭

대한전자공학회 학술대회

1995 .11

ULSI DRAM의 Capacitor 절연막용 BST 박막의 제작과 특성에 관한 연구

류정선 ,  강성준 ,  윤영섭

대한전자공학회 학술대회

1995 .12

ULSI DRAM의 Capacitor Dielectric을 위한 Paraelectric PLT 박막의 제작과 특성 ( Preparation and properties of Paraelectric PLT Thin Films for the Capacitor Dielectrics of ULSI DRAM )

강성준 ,  윤영섭

대한전자공학회 학술대회

1994 .11

ロジックとの混載に適した反轉スタックキャパシタ ( RSTC ) DRAMセル構造の提案 ( A Reserved-Stacked-Capacitor ( RSTC ) DRAM Cell Suitable for Embedded DRAM`s )

좌석목신부 ,  중촌준이 ,  굴강박 외 3명

대한전자공학회 워크샵

1996 .01