원자층증착 기술: 개요 및 응용분야

신석윤 ,  함기열 ,  전희영 외 3명

한국재료학회지

2013 .01

열처리 온도에 따른 $Ta_2O_5$ 박막의 특성변화

강필규 ,  진정근 ,  노대호 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2003 .01

ALD법으로 성장시킨 Al₂O₃ 박막의 특성분석

성석제 ,  김동진 ,  배영호 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2001 .06

원자 단위 생산 기술로서의 ALD 공정 고찰

심준형

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2011 .10

R2R 기반 공간분할형 원자층 증착(ALD) 시스템에 관한 연구

김효태 ,  최경현 ,  양영진 외 3명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2016 .10

Customized Thermal ALD (Atomic Layer Deposition) System 을 이용한 TiO₂ 박막 증착

박석원 ,  손경식 ,  김준우 외 1명

대한기계학회 춘추학술대회

2012 .11

멀티 슬릿 ALD 헤드를 이용한 저온·상압 원자층 박막 증착 공정 기술 개발

김현범 ,  이재욱 ,  양성욱 외 2명

한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집

2017 .04

통계적 실험 방법에 의한 Ta 박막의 증착 특성 연구

서유석 ,  박대규 ,  정철모 외 6명

한국재료학회지

2001 .01

HIGH-THROUGHPUT PROCESS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION

Shin ,  Woong-Chul ,  Choi 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2009 .01

High-k Thin Films by Atomic Layer Deposition for Energy and Information Storage

안지환

Journal of the Korean Society for Precision Engineering

2018 .12

ALD 공정을 이용한 폴리카보네이트 기판의 Zinc Oxide 박막증착 특성분석

이경범 ,  최병호 ,  한권덕 외 1명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2014 .05

전자 사이클로트론 공명 플라즈마와 열 원자층 증착법으로 제조된 Al₂O₃ 박막의 물리적·전기적 특성 비교

양대규 ,  김양수 ,  김종헌 외 2명

한국재료학회지

2017 .01

ALD 공정에서의 플라즈마 응용

이우재 ,  윤혜원 ,  이동권 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2015 .05

이산화 티타늄 위에서의 원자층 증착법 백금의 성장 특성

김현구 ,  이한보람

한국표면공학회지

2015 .04

Atomic layer deposition으로 증착된 Ta2O5 박막의 전도기구에 대한 UV ozone annealing 효과

엄다일 ,  전인상 ,  노상용 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

2003 .01

원자층 증착장치에 의한 TiO2 박막 코팅된 폴리머 절연체의 표면 및 전기적 특성의 향상

박용섭 ,  김남훈

전기전자재료학회논문지

2016 .01

The Moisture Barrier Film Using Thermal Epoxy Resin and Atomic Layer Deposition (ALD)

김성희 ,  이준영

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2019 .10

Al2O3 기판위에 형성된 Ti-O 완충층을 가진 Ta/Ta2O5/Ta 커패시터의 특성

김현주 ,  송재성 ,  김인성 외 1명

전기전자재료학회논문지

2003 .01

산소 기체를 이용한 ALD법으로 층착한 ZnO박막의 증착 온도가 전기적 특성에 미치는 영향

진용욱 ,  강상원

대한전자공학회 학술대회

2007 .11