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For deposition technology using plasma, it plays an important role in improving film deposited with high ionization rate through high density plasma. Various deposition methods such as high-power impulse magnetron sputtering and ion-beam sputtering have been developed for physical vapor deposition technology and are still being studied. In this study, it is intended to control plasma using inductive coupled plasma (ICP) antennas and use properties to improve the properties of Hafnium nitride (HfN) films using ICP assisted magnetron sputtering (ICPMS). HfN film deposited using ICPMS showed a finer grain sizes, denser microstructure and better mechanical properties as ICP power increases. The best mechanical properties such as nanoindentation hardness of 47 GPa and Young"s modulus of 401 GPa was obtained from HfN film deposited using ICPMS at ICP power of 200 W.
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References
참고문헌 (14)
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S. Y. Chun, A Comparative Study of TiN Coatings Deposited by DC and Pulsed DC Asymmetric Bipolar Sputtering. J. Kor. Inst. Surf. Eng., 44(5) (2011) 179-184.
S. Y. Chun, J. W. Beak, A Comparative Study of CrN Coatings Deposited by DC and Asymmetric Bipolar Pulsed DC Sputtering. J. Kor. Inst. Surf. Eng., 47(2) (2014) 86-92.
S. Y. Chun, T. Y. Lee, A Comparative Study of TiAlN Coatings Deposited by DC and Pulsed DC Asymmetric Bipolar Magnetron Sputtering. J. Kor. Inst. Surf. Eng., 47(4) (2014) 168-173.
W. Lengauer, D. Rafaja, G. Zehetner, and P. Ettmayer, Acta Materialia, The hafnium-nitrogen system: Phase equilibria and nitrogen diffusivities obtained from diffusion couples. Acta Materialia., 44(8) (1996) 3331-3338.
Y. S. Fang, K. A. Chiu, H. Do, L. Chang, Reactive sputtering for highly oriented HfN film growth on Si (100) substrate. Surf. Coat. Technol., 377 (2019) 1-6.
S. Y. Chun, J. W. Beak, A Comparative Study of CrN Coatings Deposited by DC and Asymmetric Bipolar Pulsed DC Sputtering. J. Kor. Inst. Surf. Eng., 47(2) (2014) 86-92.
S. Y. Chun, T. Y. Lee, A Comparative Study of TiAlN Coatings Deposited by DC and Pulsed DC Asymmetric Bipolar Magnetron Sputtering. J. Kor. Inst. Surf. Eng., 47(4) (2014) 168-173.
W. Lengauer, D. Rafaja, G. Zehetner, and P. Ettmayer, Acta Materialia, The hafnium-nitrogen system: Phase equilibria and nitrogen diffusivities obtained from diffusion couples. Acta Materialia., 44(8) (1996) 3331-3338.
Y. S. Fang, K. A. Chiu, H. Do, L. Chang, Reactive sputtering for highly oriented HfN film growth on Si (100) substrate. Surf. Coat. Technol., 377 (2019) 1-6.
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