인라인 스퍼터링에 의한 저항막 방식 터치패널용 ITO 기판 제조공정 최적화 기술

안민형; 조의식; 권상직

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자료유형: 학술저널

저자정보: 안민형 조의식 권상직 (경원대학교)

저널정보: 한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제18권 제6호

발행연도: 2009.11

수록면: 440 - 446 (7page)

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본 연구에서는 인라인 스퍼터링 공정을 이용하여 저항막 방식 터치패널에 적용이 가능한 인듐 주석 산화물(indium tin oxide : ITO)기판 제조 공정을 최적화하였다. 플라스틱 기판으로 고분자 기판인 폴리카보네이트(polycarbonate : PC) 기판을 사용하였으며 면저항 500±50 Ω/□, 면저항 균일도 10 % 이내, 투과율 87 %(at550㎚)이상, 두께 120∼250Å의 조건을 만족하는 ITO 기판의 공정 최적화를 위한 실험을 진행하였다. 스퍼터링 공정은 초기 진공도 1×10<SUP>-6</SUP> torr 일 때 상온에서 DC 전압을 인가하여 진행되었으며 산소/알곤 가스의 비율, 인가 전압, 공정 압력, 기판의 이송 속도를 변수로 하여 요구되는 ITO 박막의 특성에 가장 최적화된 공정 조건을 형성하였다. 인라인 방식의 스퍼터 장비에서 최적화된 공정 조건은 실제 생산 라인에 적용이 가능할 것으로 판단되며 향후 지속적인 연구를 통해 현재 수입에 의존하고 있는 ITO 기판 제조기술의 국산화에 기여할 수 있을 것이다.

#인듐주석 산화물 #폴리카보네이트 #인라인스퍼터 #산소 / 알곤 유량비 #공정압력 #Indium tin oxide #Polycarbonate #In-line sputter #Oxygen/argon ratio #Pressure

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1. [학술지(정기간행물)] - A. Kulkarni / 1998 / / J. Vac. Sci. Technol A16 : 1636 ~

2. [학술지(정기간행물)] - T. karasawa / 1997 / / Thin Solid Films 223 : 135 ~

3. [학술지(정기간행물)] - P. Lippens / 1998 / / Thin Solid Films 317 : 405 ~

4. [학술지(정기간행물)] - 조범진 / 2007 / PC 기판상에 제작된 ITO 박막의 특성 / 전기전자재료학회논문지 20 (2) : 162 ~ 166

5. [학술지(정기간행물)] - W. Wu / 1997 / / Thin Solid Films 298 : 221 ~

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