Self-seed layer를 이용하여 증착한 SBT박막의 특성

김형섭; 황동현; 윤지언; 손영국

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자료유형: 학술저널

저자정보: 김형섭 황동현 윤지언 손영국

저널정보: 한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제16권 제3호

발행연도: 2007.5

수록면: 215 - 220 (6page)

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Pt/SBT/Seed/Pt/Ti/SiO₂/Si의 구조로 SBT(SrBi₂Ta₂O?)박막을 Self-seed layer를 사용하여 R.F. Magnetron sputter를 이용하여 증착을 하였다. Self-seed layer는 기판온도 RT(room temperature)와 600℃에서 두께 30 ㎚으로 증착하였다. Self-seed layer의 결정화 온도를 알아보기 위해 열처리온도를 변화시켰고 이를 XRD를 통하여 결정화 유무를 확인하였다. Self-seed layer 위에 증착한 SBT를 XRD와 전기적 측정을 통해 특성을 관찰하였다.

#SrBi₂Ta₂O₉(SBT) #Self-seed layer #R.F. Magnetron Sputter

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1. [학술지(정기간행물)] - / 1996 / Intergration Aspects and Electrical Properties of SrBi2Ta2O9 for Non-Volatile Memory Applications 433 : 97 ~ 108

2. [학술지(정기간행물)] - / 1995 / 256 kb Ferroelectric Nonvolatile Memory Technology for 1T/1C cell with 100 ns Read/Write Time at 3V 6 : 1 ~ 13

3. [학술지(정기간행물)] - / 1992 / Feasibility for Memory Devices and Electrical Characterization of Newly developed Fatigue Free Capacitors : 137 ~ 157

4. [학술지(정기간행물)] - / 1995March20-22 / Superior Electrical Characteristics of Bi-layered Perovskite Thin Films and Comparison with PZT 108c

5. [학술지(정기간행물)] - / 1995 / Retention and imprint properties of Ferroelectric Thin Films 151 : 171 ~ 182

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