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논문 기본 정보

자료유형
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저자정보
저널정보
한국센서학회 센서학회지 센서학회지 제14권 제2호
발행연도
2005.1
수록면
22 - 27 (6page)

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A thermoelectric flow sensor for small quantity of gas flow rate was fabricated using silicon wafer semiconductor process and bulk micromachining technology. Evanohm R alloy heater and chromel-constantan thermocouples were used as a generation heat unit and sensing parts, respectively. The heater and thermocouples are thermally isolated on the Si3N4/SiO2/Si3N4 laminated membrane. The characteristics of this sensor were observed in the flow rate range from 0.2 slm to 1.0 slm and the heater power from 0.72 mW to 5.63 mW. The results showed that the sensitivities(∂(∆V)/∂(); ∆V: voltage difference, : flow rate) were increased in accordance with heater power rise and decreasing of flow rate.
#thermoelectric flow sensor #sensitivity #flow rate #KOH anisotropic etching

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/ / Micromachined flow sensors-a review 8 (1) : 7 1997 ~ 16 google schola / 1992. / Silicon thermal flow sensors 30 : 5 ~ 26 google schola / 1993. / Micro-liquid flow sensor 37-38 : 45 ~ 50 google schola / 1995. / Applications of thermal silicon sensors on membranes 49 : 1 ~ 9 google schola / 1995. / Multi-parameter detection in fluid flows 46-47 : 369 ~ 372 google schola

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