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논문 기본 정보

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한국입자에어로졸학회 PARTICLE AND AEROSOL RESEARCH PARTICLE AND AEROSOL RESEARCH 제6권 제3호
발행연도
2010.1
수록면
139 - 145 (7page)

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In this study, we investigated the particle formation during the deposition of borophosphosilicate glass (BPSG) and phosphosilicate glass (PSG) films in thermal chemical vapor deposition reactor using in-situ particle monitor (ISPM)and particle beam mass spectrometer (PBMS) which installed in the reactor exhaust line. The particle current and number count are monitored at set-up, stabilize, deposition, purge and pumping process step in real-time. The particle number distribution at stabilize step was measured using PBMS and compared with SEM image data. The PBMS and SEM analysis data shows the 110 nm and 80 nm of mode diameter for BPSG and PSG process, respectively.

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