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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2016.4
- 수록면
- 155 - 161 (7page)
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본 논문은 광 도움 전기화학적 식각으로 나노갭 트렌치 구조를 형성하고 이를 이용해서 정전 용량형 가속도 센서를 설계하고 제작한 것에 대한 연구이다. 정전 용량형 가속도 센서의 감도를 증가시키기 위해 스프링에 연결된 관성질량과 연결된 전극과 감지전극 사이의 간격을 좁혀 커패시턴스의 변화량을 증가시키고 있다. 이를 실현시키기 위해 광-도움 전기화학적 식각을 이용하였고 ANSYS 프로그램을 이용하여 구조해석을 실시하여 1㎜×1㎜ 크기의 초소형 정전 용량형 가속도 센서를 설계하였다. 광-도움 전기화학적 식각의 실험 변수인 빛의 세기, dc 전압, 용액의 조성, 피치 등을 고려하여 가속도 센서는 제작 되었다. 최적 공정 조건은 dc전압 2V, Blue LED 20mA, 49wt%HF:DMF:D.I.Water=1:20:10, 피치 20μm이며, 폭 344nm, 깊이 11.627μm의 나노갭 트렌치가 형성되었다.
목차
요약
Abstract
1. 서론
2. 나노갭 트렌치 공정 최적화
3. 나노갭 가속도센서 설계
4. 나노갭 가속도센서 제작
5. 결론
REFERENCES
참고문헌 (8)
참고문헌 신청
Yazdi N and Najafi K “An all-silicon single -wafer micro-g accelerometer with a combined surface and bulk micromachining process”, J. Microelectromech. Syst., Vol.9 pp.544–50, 2000
Hyeon Cheol Kim, Dae Hyun Kim, Jinwoo Jeong, and Kukjin Chun, “Fabrication of nano-gap accelerometer using photo-assisted electro chemical etching”, Tranducers 2005, Seoul, pp.523 -526, 2005
Hyeon Cheol Kim, Daehyun Kim and Kukjin Chun, “Photo-assisted electrochemical etching of a nano -gap trench with high aspect ratio for MEMS applications”, J. Micromech. Microeng. 16, pp. 906-913, 2006
Jeon, Yeon-Hwa, and Hyeon-Cheol Kim. "Design and Fabrication of 2mm× 2mm sized Piezoresistive Accelerometers." Journal of the Institute of Electronics and Information Engineers 52.2 (2015): 83-88.
Charlton, M. D. B., H. W. Lau, and G. J. Parker. "High aspect ratio photo-assisted electro -chemical etching of silicon and its application for the fabrication of quantum wires and photonic band structures." Microengineering Applications in Optoelectronics, IEE Colloquium on. IET, 1996
Hyeon Cheol Kim, Dae Hyun Kim, Jinwoo Jeong, and Kukjin Chun, “Fabrication of nano-gap accelerometer using photo-assisted electro chemical etching”, Tranducers 2005, Seoul, pp.523 -526, 2005
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