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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 1996.1
- 수록면
- 299 - 300 (2page)
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2013 .05
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계산기하학적 기법을 이용한 마스크 패턴 검증방법의 연구 ( A Mask Pattern Verification Method Based On Computational Geometry )
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한국통신학회 학술대회논문집
1989 .01
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RC Time Delay of the Interconnection in Sub-Quarter-Micron VLSI Circuit
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
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SUB-QUARTER MICRON LITHOGRAPHY : KrF EXCIMER LASER STEPPER WITH DUMMY DIFFRACTION MASK
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
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위상변환 마스크 리소그래피에 의한 0.15μm T-형 게이트 형성방법 ( The Formantion of 0.15μm T-Shaped GAte By Phase Shift Mask Using A New Optical Lithograpic Technique )
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
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광섬유 브래그 격자용 위상 마스크에 의한 회절 및 간섭 패턴 해석 ( Analysis of Diffraction and Interference Pattern from Phase Mask for Fiber Bragg Grating )
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
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광섬유 브래그 격자용 위상 마스크에 의한 회절 및 간섭 패턴 해석 ( Analysis of Diffraction and Interference Pattern from Phase Mask for Fiber Bragg Grating )
한국통신학회 광전자공학 학술회의
1998 .01
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사파이어 기판에 sub-micron급 패터닝을 위한 나노 임프린트 리소그래피 공정
한국재료학회 학술발표대회
2009 .01
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157nm 광리소그래피 위상변위 마스크용 Si-O-N-F 박막의 특성연구
한국재료학회 학술발표대회
2002 .01
이 논문의 저자 정보
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Metal과 Contact Layer Patterning을 위한 규칙기반 OPC 및 ORC Approach
이미영
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2003
.06
몬테-칼로 기법을 사용한 포토마스크의 결상 왜곡 보정
이재철
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대한전자공학회 학술대회
1997
.11
Resolution Enhancement Through a Rule-Free Optical Proximity Correction in Optical Lithography
오용호
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이재철
,
임성우
외 1명
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1998
.01
Monte-Carlo Based Optical Proximity Correction for the Half-Tone Phase Shift Mask
Yong Ho Oh
,
Jai Cheol Lee
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Ssung Woo Lim
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998
.01
미세 패턴 형성을 위한 위상 반전 마스크 연구 ( Alternating Phase Shift Mask for Sub-0.25 mm Lithography )
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