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한국산학기술학회 한국산학기술학회 학술대회논문집 한국산학기술학회 2003년도 춘계학술발표대회 논문집
발행연도
2003.6
수록면
239 - 242 (4page)

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Scale down으로 인해 부족해진 overlay margin을 통해 충분히 확보해주고, 이와 동시에 attPSM(attenuated phase shift)의 사용으로 발생하는 side-lobe 현상을 억제하기 위한 방법으로 rule-based OPC(optical proximity correction)를 사용하여 side-lobe만을 효과적으로 추출한 후, 그 자리에 scattering bar를 삽입하였다. 그리고 ORC(optical rule checking)를 통해 original layout과 aerial image의 EPEs(edge placement errors)를 검사하여 검증에 걸리는 시간을 감소시켰다.

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