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An Improved Process for the Significant Reduction of Polycide-to-Polycide Contact Resistance
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
Ti-polycide gate의 gate oxide 신뢰성의 limitation 연구
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
RTP에 의한 W-Polycide막 특성
전기학회논문지
1991 .11
Emission Characteristics of Gated Mo-Polycide Field Emitter Arrays
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
폴리사이드 형성 조건에 따른 WSix 박막 특성에 관한 연구
전기학회논문지 C
2003 .09
A STUDY ON THE UNSTABILITY OF CONTACT RESISTANCE IN W(tungsten) POLYCIDE BIT LINE TO W POLYCIDE WORD LINE CONTACT
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
BF2 Dopant가 Titanium Polycide 형성에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
BF2 Dopant가 Titanium Polycide 형성에 미치는 영향 ( Effect of BF2 on the Formation of Ti-Polycide )
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
Quartz/tungsten polycide 구조에서 발생되는 crack에 대한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
폴리사이드 구조에서 dual 게이트 산화막에 대한 공정특성 연구
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
폴리사이드 구조에서 dual 게이트 산화막에 대한 공정특성 연구 ( A Study on the process characteristics of polycide based dual gate oxidation )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
폴리사이드 구조에서의 게이트 산화막에 대한 공정특성 개선에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
폴리사이드 구조에서의 게이트 산화막에 대한 공정특성 개선에 관한 연구 ( A Study on the Process Characteristics Approvement of Polycide Based Gate Electrode )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
BF2 Dopant가 Titanium Polycide 형성에 미치는 영향 ( Effect of BF2 Dopant on the Formation of Ti-Polycide )
전자공학회논문지-A
1991 .11
니켈 폴리사이드 게이트 전극 형성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
코발트 폴리사이드 게이트 전극 형성
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
TEM을 이용한 『Poly-Si/SiO₂/W Polycide』다층막의 특성평가
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
TEM을 이용한 Poly-Si / SiO2 / W Polycide 다층막의 특성평가 ( Evaluation of Poly-Si / SiO2 / W-Polycide Multi Layered Film Using Cross Sectional TEM )
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
Lead-Frame 에칭공정에서 몬테카를로 시뮬레이션을 이용한 에칭특성 예측
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2006 .01
텅스텐 폴리사이드 전극에 따른 게이트 산화막의 내압 특성 ( Breakdown Characteristics of Gate Oxide with Tungsten Polycide Electrode )
전자공학회논문지-A
1996 .12
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