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W-Polycide Gate Etch 공정에 관한 연구 ( Development of W-Polycide Gate Etch Process )
대한전자공학회 학술대회
1994 .01
Ti-Ploycide 게이트에서 게이트산화막의 전연파괴특성
한국재료학회지
1993 .01
Emission Characteristics of Gated Mo-Polycide Field Emitter Arrays
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
An Improved Process for the Significant Reduction of Polycide-to-Polycide Contact Resistance
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
두께 변화에 따른 Gate Oxide의 전기적 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .07
BF2 Dopant가 Titanium Polycide 형성에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
RTP에 의한 W-Polycide막 특성
전기학회논문지
1991 .11
SEA-OF-GATES
CAD기술특강
1989 .01
BF2 Dopant가 Titanium Polycide 형성에 미치는 영향 ( Effect of BF2 on the Formation of Ti-Polycide )
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
2-bit/Cell Split Gate Flash Memory with Double Gate
ITC-CSCC :International Technical Conference on Circuits Systems, Computers and Communications
2007 .07
Gate Array
전자공학회지
1992 .06
3-Level Gate Drive Design
전력전자학회 학술대회 논문집
2018 .07
산화전 분위기가 Gate Oxide 특성에 미치는 영향
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
STUDIES ON FABRICATION TECHNIQUES OF SUB-0.4μm T-GATE AND Γ-GATE STRUCTURES USING UV LITHOGRAPHY
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
The reliability analysis in gate oxide of MOSFET via percolation models
대한산업공학회 추계학술대회 논문집
2008 .11
a-Si Gate 구동회로의 Stepwise Gate 신호적용에 대한 연구
전기전자재료학회논문지
2008 .01
폴리사이드 형성 조건에 따른 WSix 박막 특성에 관한 연구
전기학회논문지 C
2003 .09
Comparative Study on the Structural Dependence of Logic Gate Delays in Double-Gate and Triple-Gate FinFETs
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2010 .06
니켈 폴리사이드 게이트 전극 형성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
텅스텐 폴리사이드 전극에 따른 게이트 산화막의 내압 특성 ( Breakdown Characteristics of Gate Oxide with Tungsten Polycide Electrode )
전자공학회논문지-A
1996 .12
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