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복합 코발트 실리사이드 공정에 따른 게이트 산화막의 특성변화
한국재료학회지
2003 .01
Ti-실리사이드 형성에 관한 연구 ( A Study on the Ti-Silicide Formation )
대한전자공학회 학술대회
1987 .07
디지털 합금방법으로 성장한 AlxGa₁-xA층의 균일한 산화
한국통신학회 기타 간행물
2004 .11
Oxidation of Ti(C,N) Thin Film Deposited on Titanium
한국에너지기후변화학회 학술대회
2017 .05
급속 열처리 방식에 의한 Ti-실리사이드의 형성 연구 ( Formation of Ti-silicides by Rapid Thermal Annealing )
전자공학회논문지-A
1996 .08
자연산화막 존재에 따른 코발트 니켈 복합실리사이드 공정의 안정성
한국산학기술학회 논문지
2007 .02
급속 열처리 장치에 의한 코발트 실리사이드 형성과 성장에 관한 연구 ( A Study on the Formation and Growth of Cobalt Silicide by Rapid Thermal Processor )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
LPCVD-Si3N4 박막의 열 산화
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
다양한 박막층을 채용한 코발트실리사이드의 물성
한국재료학회지
2003 .01
Co/Ti/Si 계에서 고상반응에 의한 Cobalt Silicide 형성기구 고찰
한국재료학회지
1996 .01
Co 단일막과 Co/Ti 이중막을 이용한 Co-실리사이드의 형성 연구
한국재료학회지
1996 .01
Ti-실리사이드 전계방출소자의 제작 및 전기적 특성 평가
대한전자공학회 학술대회
1997 .06
Ti-실리사이드 전계방출소자의 제작 및 전기적 특성 평가 ( Fabrication and Emission Characteristics of the Ti-Silicided Field Emitter Arrays )
대한전자공학회 학술대회
1997 .07
Co 단일층과 Co/Ti 이중층에 의하여 형성된 코발트 실리사이드막의 구조
한국재료학회지
1996 .01
Co/Ti(100)Si 이중층을 이용한 에피텍셜 Co 실리사이드의 형성
한국재료학회지
1998 .01
고속열확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti-실리사이드화 된 n+ -P 다이오드 특성분석 ( The formation of the Shallow Junction by Rapid Thermal Diffusion and characteristic Analysis for n+ -p Diode with Ti-silicide )
대한전자공학회 학술대회
1993 .11
Co 및 Co/Ti 이중막에 의해 형성된 Co-실리사이드의 열적 불안정성 ( Thermal Instability of Co-silicides formed by Co and Co/Ti Bilayer )
전자공학회논문지-A
1996 .11
304스테인리스강의 고온산화에 미치는 Ti, B의 영향
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1996 .11
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