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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 제22권 제8호
발행연도
2005.8
수록면
165 - 173 (9page)

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

2005

레이저 국소증착을 이용한 TFT-LCD 회로 수정용 미세 텅스텐 패턴 제조
박종복 ,  김창재 ,  박상혁 외 3명 Journal of the Korean Society for Precision Engineering 2005.08 학술저널
레이저 국소증착을 이용한 TFT-LCD 회로수정 패턴제조
박종복 ,  정성호 ,  김창재 외 3명 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 2005.06 학술대회자료

2004

레이저 국소증착을 이용한 미세 회로수정 패턴 제조
박종복 ,  정성호 ,  김창재 한국레이저가공학회 학술대회 논문집 2004.01 학술대회자료

초록· 키워드

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This paper presents the results for deposition of micrometer-scale metal lines on glass for the development of TFT-LCD circuit repair-system. Although there had been a few studies in the late 1980’s for the deposition of metallic interconnects by laser-induced chemical vapor deposition, those studies mostly used continuous wave lasers. In this work, a third harmonic Nd:YLF laser (351㎚) of high repetition rates, up to 10 KHz, was used as the illumination source and W(CO)? was selected as the precursor. General characteristics of the metal deposit (tungsten) such as height, width, morphology as well as electrical properties were examined for various process conditions. Height of the deposited tungsten lines ranged from 35 to 500 ㎚ depending on laser power and scan speed while the width was controlled between 3∼50 ㎛ using a slit placed in the beam path. The resistivity of the deposited tungsten lines was measured to be below 1 Ωㆍ㎛, which is an acceptable value according to the manufacturing standard. The tungsten lines produced at high scan speed had good surface morphology with little particles around the patterns. Experimental results demonstrated that it is likely that the deposit forms through a hybrid process, namely through the combination of photolytic and pyrolytic mechanisms.
#Laser-assisted chemical vapor deposition(LCVD: 레이저국소증착) #Direct writing(직접묘사) #Circuit repair(회로수정) #LCD(액정표시장치) #Tungsten deposition(텅스텐증착)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 이론적 배경
3. 실험장치 및 실험방법
4. 결과 및 고찰
5. 결론
참고문헌

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